全文摘要
本实用新型涉及一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，属于碳化硅加工设备技术领域，包括抛光盘本体，抛光盘本体为圆盘形结构，抛光盘本体的抛光面包括一组斜线状的微型凸起，微型凸起与抛光盘本体的旋转方向呈夹角α设置，夹角α为40°‑70°，微型凸起沿抛光盘本体上的多个同心圆设置且互不连接，抛光盘本体下方设置有与过滤装置连接的回收装置，能够有效地防止抛光过程中产生的粉末及抛光液的堵塞，减少碳化硅晶片表面损伤的产生，提高产品质量。
主设计要求
1.一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，包括抛光盘本体(1)，其特征在于：所述的抛光盘本体(1)为圆盘形结构，抛光盘本体(1)的抛光面包括一组斜线状的微型凸起(2)，所述的微型凸起(2)与抛光盘本体(1)的旋转方向呈夹角α设置。
设计方案
1.一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，包括抛光盘本体(1)，其特征在于：所述的抛光盘本体(1)为圆盘形结构，抛光盘本体(1)的抛光面包括一组斜线状的微型凸起(2)，所述的微型凸起(2)与抛光盘本体(1)的旋转方向呈夹角α设置。
2.根据权利要求1所述的一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，其特征在于：所述的微型凸起(2)与抛光盘本体(1)的旋转方向之间的夹角α为40°-70°。
3.根据权利要求1所述的一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，其特征在于：所述的微型凸起(2)沿抛光盘本体(1)上的多个同心圆设置且互不连接。
4.根据权利要求1所述的一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，其特征在于：所述的抛光盘本体(1)下方设置有与过滤装置连接的回收装置。
5.根据权利要求1所述的一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，其特征在于：所述的微型凸起(2)的上端设置有一组凸棱(3)，凸棱(3)与微型凸起(2)沿抛光盘本体(1)的切线对称设置。
6.根据权利要求5所述的一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，其特征在于：所述的微型凸起(2)与凸棱(3)的高度比为8-20。
设计说明书
技术领域
本实用新型属于碳化硅加工设备技术领域，涉及一种抛光盘，具体地说是一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘。
背景技术
作为第三代半导体材料，碳化硅凭借其在高温、高压、高频等条件下的优异性能，成为当今最受关注的新型半导体材料之一。采用碳化硅材料制成的电力电子元件可工作于极端或恶劣环境下，特别适用于航空航天、石油地质勘探、高速铁路、新能源汽车、太阳能逆变器及工业驱动等需要大功率电源转换的应用领域。
在CMP抛光过程中，所使用的抛光盘一般都为环形表面。抛光盘在下面，同时在抛光盘上喷涂抛光液，通过抛光盘和贴有碳化硅单晶片的陶瓷盘的旋转来进行碳化硅单晶片的表面抛光。现有的抛光盘存在以下缺点：
在抛光的过程中，晶片表面会产生很多微小的粉末，也就是从单晶片上掉下来的碳化硅粉末。在抛光进行一段时间后，抛光产生的碳化硅粉末及抛光液会在抛光盘上堆积堵塞。久而久之会对晶片表面的抛光效果产生影响，甚至一些较大的粉末颗粒会对碳化硅晶片的表面造成很深的划痕。
发明内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，能够有效地防止抛光过程中产生的粉末及抛光液的堵塞，减少碳化硅晶片表面损伤的产生，提高产品质量。
本实用新型采用的技术方案是：
一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，包括抛光盘本体，关键在于，所述的抛光盘本体为圆盘形结构，抛光盘本体的抛光面包括一组斜线状的微型凸起，所述的微型凸起与抛光盘本体的旋转方向呈夹角α设置。
所述的微型凸起与抛光盘本体的旋转方向之间的夹角α为40°-70°。
所述的微型凸起沿抛光盘本体上的多个同心圆设置且互不连接。
所述的抛光盘本体下方设置有与过滤装置连接的回收装置。
所述的微型凸起的上端设置有一组凸棱，凸棱与微型凸起沿抛光盘本体的切线对称设置。
所述的微型凸起与凸棱的高度比为8-20。
本实用新型的有益效果是：抛光面不是环形分布的，而是在抛光盘本体上设置了一组斜线状的微型凸起，抛光时抛光盘本体旋转，微型凸起对碳化硅晶片的表面进行抛光，抛光产生的粉末进入碳化硅晶片与抛光盘本体之间，不会停留在微型凸起的表面，有效防止粉末与碳化硅晶片直接接触产生碳化硅晶片的磨损；抛光盘本体旋转的同时产生对粉末的离心力，粉末沿微型凸起之间的间隙甩出抛光盘本体，防止粉末、抛光液在抛光盘上产生阻塞，保证抛光质量。
附图说明
图1是实施例1的结构示意图。
图2是实施例2的微型凸起的结构示意图。
图3是实施例2的微型凸起的剖视图。
附图中，1代表抛光盘本体，2代表微型凸起，3代表凸棱，箭头代表抛光盘本体的旋转方向。
具体实施方式
本实用新型涉及一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，包括抛光盘本体1，关键是，所述的抛光盘本体1为圆盘形结构，抛光盘本体1的抛光面包括一组斜线状的微型凸起2，所述的微型凸起2与抛光盘本体1的旋转方向呈夹角α设置。
下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步说明。
实施例1，如图1所示，该抛光盘本体1的抛光面采用一组与抛光盘本体1的旋转方向呈夹角α设置的斜线状的微型凸起2，斜线状的微型凸起2的上表面面积小，不足以产生粉末及抛光液的堆积，而微型凸起2与抛光盘本体1之间的高度差形成了带有粉末的抛光液的存储空间，可防止粉末颗粒与碳化硅晶片的表面接触，避免划痕的出现。微型凸起2的高度大于粉末颗粒的直径。
微型凸起2与抛光盘本体1的旋转方向之间的夹角α为40°-70°，即微型凸起2所在直线与抛光盘本体1的交点上的切线，微型凸起2与该切线之间的夹角α为40°-70°，抛光盘本体1旋转的过程中，抛光盘本体1上的碳化硅粉末及抛光液在离心力的作用下向四周甩落，若微型凸起2与旋转方向的夹角过小或过大均会对其两侧的碳化硅粉末、抛光液的甩落产生阻扰，不利于碳化硅粉末、抛光液的甩落，因此，将微型凸起2与抛光盘本体1的旋转方向之间的夹角α设计为40°-70°，优选60°，该夹角角度的设置大大降低了微型凸起2对碳化硅粉末、抛光液的阻挡，使碳化硅粉末、抛光液随抛光盘本体1的旋转快速地被甩落。
微型凸起2沿抛光盘本体1上的多个同心圆设置且互不连接，微型凸起2均匀设置在抛光盘本体1上，能够对碳化硅晶片的表面进行均匀的磨削、抛光，抛光效果好，且可对各位置产生的粉末进行临时存储且不会产生甩落方向的阻挠，使粉末均匀分布，防止堆积，抛光过程中产生碳化硅粉末和抛光液顺着微型凸起2之间的间隙被甩出去，抛光盘本体1下方设置有与过滤装置连接的回收装置，碳化硅粉末和抛光液流到回收装置中，再经过过滤装置的过滤净化，将洁净的抛光液过滤出，可以重新投入抛光生产中进行循环使用，大大降低了抛光液的损耗。
实施例2是微型凸起2的另一种实施方式，如图2-3所示，所述的微型凸起2的上端设置有一组凸棱3，微型凸起2所在直线与抛光盘本体1的交点处设置切线，凸棱3与微型凸起2沿该切线对称设置，凸棱3形成类似旋转刮刀的结构，对待抛光的物品的表面进行过渡抛光，有效减少微型凸起2的磨损，微型凸起2与凸棱3的高度比为8-20，凸棱3过高则强度差且抛光面粗糙，过低则不能起到减缓磨损的效果，本实施例优选微型凸起2与凸棱3的高度比为16。
进一步的，微型凸起2的横截面呈拱形，抛光效果好、强度好，又利于粉末的排出。
本实用新型涉及的一种解决碳化硅抛光液堵塞的抛光盘，在抛光过程中产生的碳化硅粉末和浑浊的抛光液不会堆积在抛光面上，而是存储在抛光面与抛光盘本体之间，即微型凸起与抛光盘本体的高度差的空间内，在抛光盘本体旋转的过程中，碳化硅粉末和浑浊的抛光液随微型凸起间的间隙甩出，有效防止碳化硅粉末和抛光液堆积、堵塞，防止碳化硅粉末与碳化硅晶片接触，不会损伤碳化硅晶片的表面，从而有效的提高了产品质量。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920290622.0
申请日:2019-03-07
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:13(河北)
授权编号:CN209579204U
授权时间:20191105
主分类号:B24B 41/04
专利分类号:B24B41/04
范畴分类:26F;
申请人:同辉电子科技股份有限公司
第一申请人:同辉电子科技股份有限公司
申请人地址:050200 河北省鹿泉区高新技术开发区昌盛大街21号
发明人:元利勇;曾昊;王玉茹;李帅
第一发明人:元利勇
当前权利人:同辉电子科技股份有限公司
代理人:张建茹
代理机构:13115
代理机构编号:石家庄元汇专利代理事务所（特殊普通合伙）
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计