导读:本文包含了非晶碳氢膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:碳氢,衬底,分形,等离子体,分析器,光谱,射频。
非晶碳氢膜论文文献综述
冯建鸿,卢铁城,吴卫东,贾鹏[1]（2009）在《RF-PECVD掺溴非晶碳氢膜的Raman光谱分析》一文中研究指出在室温条件下,以溴乙烷为单体、氢气为载气,用13.56MHz射频等离子体化学气相淀积方法(RF-PECVD)在硅片衬底上生长了掺溴非晶碳氢薄膜(a-C∶Br∶H)。通过对其进行Raman光谱分析,研究了工作气压对薄膜结构的影响。结果显示:随着气体工作压力从20Pa下降至5Pa,样品D峰强度增强,ID/IG值逐步由1.18增加至1.36,G峰的位置向高频轻微移动;与此同时,薄膜生长方式逐步转为低能态形式生长,薄膜中sp2C逐步由链式结构向环式结构转化。(本文来源于《光谱学与光谱分析》期刊2009年12期）
孙超[2]（2009）在《非晶碳氢膜刻蚀率与离子能量分布函数关系的研究》一文中研究指出在微波ECR设备中,利用能量分析器进行了对非晶碳氢膜刻蚀过程中离子能量的测量,对比根据在线椭偏仪所测的刻蚀率,我们得到离子能量分布及离子流密度对非晶碳氢膜刻蚀过程的影响关系。(本文来源于《2009年全国微波毫米波会议论文集（下册）》期刊2009-05-23）
孙超,徐军,马腾才[3]（2007）在《用在线椭偏仪研究非晶碳氢膜沉积和刻蚀过程》一文中研究指出利用在线椭偏仪对非晶碳氢膜进行了光学常数、沉积率和刻蚀率的测量。在无直流负偏压或偏压较小时,薄膜呈现聚合物结构,折射率和消光系数较小;当增加直流负偏压时,薄膜的折射率和消光系数显着提高,所成膜为硬质非晶碳氢膜。在以CH4作为气源进行沉积时,随着偏压的增加,沉积率先升高再降低,在偏压为-100V时,沉积率为最大。H2/N2(30%N2)的混合气体的刻蚀率要比单独用H2作为刻蚀气体的刻蚀率要大。对于CH4/N2(30%N2),在偏压从0V增加到300V过程中,在大约50V时,基底上的薄膜有一个从沉积到刻蚀的转化过程。(本文来源于《核聚变与等离子体物理》期刊2007年02期）
姚合宝,贺庆丽,于明湘[4]（2001）在《非晶碳氢膜的介电谱与分形结构》一文中研究指出利用 RF- DC辉光放电等离子化学气相沉积法制备了非晶碳氢膜 ,并测试了其介电谱 ,用分形理论研究了这种无序结构材料的介电谱与物质结构的关系。结果表明 ,低频反常色散介电谱确实可以传达物质结构的信息。(本文来源于《西北大学学报(自然科学版)》期刊2001年04期）
刘志远,刘启海,何大韧,杨功能,刘建军[5]（1993）在《非晶碳氢膜晶化分形体密度簇模拟》一文中研究指出在非晶碳氢膜非平衡凝聚分形计算机模拟的系列工作基础上,模拟了密度簇,这有益于对非晶碳氢膜晶化机制的进一步研究和开发利用。(本文来源于《西北大学学报(自然科学版)》期刊1993年01期）
刘启海,杨功能,刘志远,何大韧[6]（1992）在《非晶碳氢膜晶化凝聚的蒙特卡罗模拟》一文中研究指出在材料科学领域中,关于非晶碳氢膜的研究,叁十年来国内外一直处于活跃时期,非晶碳氢(a-CH)膜系类金刚石结构,有着许多特殊性能,电阻率高,红外及可见区透明,电介性能好,硬度大,抗蚀性强,还可掺杂。在电子学器件,光学器件,生物工程及机械工程等方面,a-C:H膜都有美好的应用前景。采用直流射频辉光放电法在KCl衬底上制备的a-C:H膜,存放了四年也未发现性能发生变化,衍射象始终呈显晕环。红外谱峰值出现在2870,2930和2970cm~(-1)处,它们分别对应于对称SP~3CH_3,SP~3CH_2和C-H组合,以及反对称SP~3CH_2的伸展振动,表明四面体功能团在a-C:H膜中占绝对优势,经激光辐照晶化凝聚,形成链环状结构,具有功能团-功能团扩散聚合特征,显示出标度不变性分形,我们以无序功能团切变与扩散和有限扩散凝聚的概念为基础,由红外和喇曼实验测定a-C:H膜的叁延向功能团与双延向功能团数目之比为2.43,并从理论上提出了a-C:H膜的非平衡晶化凝聚模型,在计算机上进行蒙特卡罗模拟,先后在四方阵,叁角阵和六角阵上模拟出了a-C.H的分形图,而且由密度关联函数和稳键最小二乘法拟合所获得的分维值均为1.83+0.03,同时发现随密度增大而标度区变宽的拓扑性质。(本文来源于《计算物理》期刊1992年S1期）
刘志远,何大韧,刘启海,杨功能,刘晓伟[7]（1992）在《非晶碳氢膜晶化凝聚的六角阵模拟》一文中研究指出利用计算机随机函数模拟非晶碳氢膜非平衡晶化凝聚,获得六角阵情况下的链环状晶化凝聚分形,而且分维值与正方阵情况下的相同。复合膜a-C:H/KCl中的分维值为1.81±0.03,a-C:H/a-Se中的为1.37±0.02。(本文来源于《西北大学学报(自然科学版)》期刊1992年03期）
吴鹏,于明湘,刘买利,何大韧[8]（1988）在《红外激光材料上的非晶碳氢膜及其激光破坏》一文中研究指出在 Si,Ge,KC1,Au,Cu 衬底上制备了非晶碳氢膜(a—C:H)。由红外透射谱分析得到膜中 SP~3键占主导地位。对 Si、KC1、Au、Cu 衬底上非晶碳膜的激光破坏作了研究,指出非晶碳膜的激光破坏机制与非晶硅、非晶锗相比远为复杂。(本文来源于《应用激光》期刊1988年05期）
非晶碳氢膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
在微波ECR设备中,利用能量分析器进行了对非晶碳氢膜刻蚀过程中离子能量的测量,对比根据在线椭偏仪所测的刻蚀率,我们得到离子能量分布及离子流密度对非晶碳氢膜刻蚀过程的影响关系。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
非晶碳氢膜论文参考文献
[1].冯建鸿,卢铁城,吴卫东,贾鹏.RF-PECVD掺溴非晶碳氢膜的Raman光谱分析[J].光谱学与光谱分析.2009
[2].孙超.非晶碳氢膜刻蚀率与离子能量分布函数关系的研究[C].2009年全国微波毫米波会议论文集（下册）.2009
[3].孙超,徐军,马腾才.用在线椭偏仪研究非晶碳氢膜沉积和刻蚀过程[J].核聚变与等离子体物理.2007
[4].姚合宝,贺庆丽,于明湘.非晶碳氢膜的介电谱与分形结构[J].西北大学学报(自然科学版).2001
[5].刘志远,刘启海,何大韧,杨功能,刘建军.非晶碳氢膜晶化分形体密度簇模拟[J].西北大学学报(自然科学版).1993
[6].刘启海,杨功能,刘志远,何大韧.非晶碳氢膜晶化凝聚的蒙特卡罗模拟[J].计算物理.1992
[7].刘志远,何大韧,刘启海,杨功能,刘晓伟.非晶碳氢膜晶化凝聚的六角阵模拟[J].西北大学学报(自然科学版).1992
[8].吴鹏,于明湘,刘买利,何大韧.红外激光材料上的非晶碳氢膜及其激光破坏[J].应用激光.1988
论文知识图
