微型磁瓦表面线缺陷视觉检测方法研究

论文摘要

针对微型磁瓦图像对比度低、纹理背景复杂、亮度不均匀、缺陷区域小等特点,本文提出了一种微型磁瓦表面线缺陷视觉检测方法。首先,构造自适应静态掩膜,屏蔽微型磁瓦轮廓;其次,采用非线性各向异性扩散方程,抑制微型磁瓦表面纹理;进而,构造动态掩膜自下而上扫描磁瓦图像,提取线缺陷区域;最后,在开发的微型磁瓦视觉检测实验装置上,进行了大量的实验研究。实验结果表明,本文缺陷提取算法能够较准确提取出磁瓦表面图像的线缺陷,表面缺陷检测的准确率为94.6%。

论文目录

• 1 引 言
• 2 磁瓦表面线缺陷
• 3 微型磁瓦线缺陷检测算法
•   3.1 微型磁瓦线缺陷检测原理
•   3.2 微型磁瓦明显线缺陷提取方法
•     3.2.1 静态掩膜M构造
•     3.2.2 非线性各向异性扩散方程抑制纹理
•   3.3 微型磁瓦微弱线缺陷提取方法
•     3.3.1 动态掩膜N构造
•     3.3.2 线缺陷提取
• 4 性能分析与实验结果
•   4.1 小磁瓦表面缺陷检测系统设计
•   4.2 算法比较
•   4.3 实验结果
• 5 结 论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 张露滨,李俊峰,沈军民

关键词: 微型磁瓦,掩膜,扩散方程,线缺陷

来源: 光电子·激光 2019年09期

年度: 2019

分类: 信息科技,工程科技Ⅱ辑

专业: 电力工业,计算机软件及计算机应用

单位: 浙江理工大学启新学院,浙江理工大学自动化系,浙江理工大学电子信息工程系

基金: 国家自然科学基金(61374022),浙江省公益性技术应用研究计划项目(LGG18F030001,GG19F030034),金华市科学技术研究计划重点项目(2018-1-027)资助项目

分类号: TM273;TP391.41

DOI: 10.16136/j.joel.2019.09.0060

页码: 951-959

总页数: 9

文件大小: 2186K

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