离子辅助镀论文_徐领娣,郑立功,范镝,张学军,王加朋

导读:本文包含了离子辅助镀论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译,主要关键词:离子,反射率,表面,碳化硅,薄膜,牢固,密度。

离子辅助镀论文文献综述

徐领娣,郑立功,范镝,张学军,王加朋[1](2008)在《空间RB-SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术》一文中研究指出针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由SiSiC两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了表面离子辅助沉积(IAD)硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率。对厚度为10±0.5μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示:IAD-Si膜层为非结晶结构,能够提供较好的抛光表面,在77~673K的热冲击下膜层稳定性良好。以Si膜的抛光机理为依据,对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试,给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度RMS值优于1/20λ(λ=632.8nm)且表面粗糙度RMS值<0.5nm的超光滑表面;与改性前相比,反射镜改性层抛光表面在360~1100nm波段的反射率提高了4.5%以上。(本文来源于《光学精密工程》期刊2008年12期)

王聪娟,晋云霞,王英剑,范正修[2](2005)在《离子辅助镀膜中离子源束流密度均匀性研究》一文中研究指出以Veeco公司生产的Mark Ⅱ离子源为例,分析了平面夹具上离子源束流密度的分布情况,实验结果表明当离子源垂直入射时在偏离离子源轴线的位置,束流密度显着降低,当其以一定角度倾斜入射的时候就可以有效的改善这一不均匀分布,使得在一定范围内保持良好的均匀性,从而满足大口径光学镀膜的需要。(本文来源于《上海市激光学会2005年学术年会论文集》期刊2005-09-01)

迟晓丽[3](2004)在《离子辅助镀高功率CO_2激光薄膜研究》一文中研究指出在高功率CO2激光系统中,光学薄膜作为光学元件一个组成部分,通常是重要而又薄弱的环节。在高功率密度状态下,激光输出窗口和全反射镜的热畸变和热破坏常常是限制激光功率提高和光束质量改善的关键技术问题。本文对高功率CO2激光谐振腔中用作窗口的减反膜、部分反射膜和用作反射镜的全反膜等相关薄膜膜系的设计和薄膜离子辅助镀工艺进行了深入的理论分析和实验研究。本文采用Needle法和Tunneling法相结合的优化设计方法,考虑了高功率激光系统光学薄膜内电场强度分布,构造了新的评价函数,实现了最优化膜系结构的自动设计;并对设计出的膜系结构进行了膜层灵敏度的分析,对实际镀制起到一定的指导作用。从材料的热传导率、吸收以及热膨胀系数入手,选择合适的反射镜基底材料和窗口基底材料。采用正交实验法,对离子辅助镀工艺进行了研究,分析了基片温度、屏极电压和束流密度叁个主要参数对镀膜质量的影响,找到了合适的工艺参数。在对膜料折射率的测试中,我们采用椭圆偏振法和分光光度法两种方法进行测量,由于这两种方法的局限性,我们采用基于最优化原理的方法计算出了YF3和ZnSe的折射率和消光系数,拟合出与测试曲线比较吻合的曲线,并与上面两种方法进行了比较。本文研究了光学薄膜的监控方法,提出了一种新的设计方法——复合监控法,即将晶振监控和极值法光学监控两个监控方法复合起来。该方法利用晶振监控中的良好的线性度来校正光学监控中的停镀点,更适合于采用可见光监控长波段红外光学薄膜的淀积,即使在晶振失效时仍然可以采用过正量监控方法,保证了薄膜镀制成功。本文完成了大量薄膜淀积实验,确定了各种膜材料的最佳工艺参数,最后镀制出符合设计要求的GaAs部分透射窗口,ZnSe全透窗口和全反镜,并应用于实践中,效果比较好。(本文来源于《华中科技大学》期刊2004-04-01)

迟晓丽,夏文建[4](2003)在《高功率CO_2激光薄膜的离子辅助镀工艺进展》一文中研究指出真空蒸发镀膜技术已经应用了很多年 ,随着激光技术的发展 ,人们对激光薄膜尤其是高功率激光薄膜的质量要求越来越高 ,离子辅助沉积薄膜技术已被广泛用来作为一种改善光学薄膜特性的工艺手段。本文简单地介绍了这项技术的原理及国内外研究现状 ;总结了该技术的优、缺点 ;客观评价了该技术的应用前景 ;对该技术今后的研究方向提出了建议。(本文来源于《激光杂志》期刊2003年04期)

周鹏飞,高扬,陈桂莲[5](1991)在《离子辅助镀膜技术及其应用》一文中研究指出离子辅助淀积技术对于改进光学薄膜的性质、改善薄膜的微结构、应力状态与表面形貌具有良好效果,从而得到许多具有新机能的薄膜。本文讲述丁离子辅助镀膜的实验装置,说明了使用此工艺镀制ZrO_2,薄膜样品的参数,并给出了光学特性测量、牢固度测量、表面形貌与划痕的实验结果。(本文来源于《激光与红外》期刊1991年05期)

周鹏飞,高杨,陈桂莲[6](1990)在《离子辅助镀膜》一文中研究指出离子辅助淀积技术是目前一种新颖的真空镀膜技术,它的发展历史不长,但已经受到各方面的关注。离子辅助镀膜在光学工业中的推广应用,将使薄膜制备技术进入一个新的发展阶段。(本文来源于《光学仪器》期刊1990年04期)

恭义[7](1989)在《“宽束冷阴极离子源及其在离子辅助镀膜中的应用”课题通过机电部组织的鉴定》一文中研究指出3月14日,机械电子工业部在我院召开“宽束冷阴极离子源及其在离子辅助镀膜中的应用”课题鉴定会。本课题是由原兵器丁业部兵器科学研究院于1986年7月下达我院的。课题在仪器工程系严一心副教授主持下,经过近二年的努力,于1988年初全面完成。参加鉴定会的有机械电子工业部主管部门的领导和来自全国光学薄膜行业、离子源技术行业的20多位专家。专家们在严格测试,并认真审查了课题组提出的研制报告后,一致认为:本课题研制的(本文来源于《西安工业大学学报》期刊1989年01期)

离子辅助镀论文开题报告

(1)论文研究背景及目的

此处内容要求:

首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。

写法范例:

以Veeco公司生产的Mark Ⅱ离子源为例,分析了平面夹具上离子源束流密度的分布情况,实验结果表明当离子源垂直入射时在偏离离子源轴线的位置,束流密度显着降低,当其以一定角度倾斜入射的时候就可以有效的改善这一不均匀分布,使得在一定范围内保持良好的均匀性,从而满足大口径光学镀膜的需要。

(2)本文研究方法

调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。

观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。

实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。

文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。

实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。

定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。

定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。

跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。

功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。

模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。

离子辅助镀论文参考文献

[1].徐领娣,郑立功,范镝,张学军,王加朋.空间RB-SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术[J].光学精密工程.2008

[2].王聪娟,晋云霞,王英剑,范正修.离子辅助镀膜中离子源束流密度均匀性研究[C].上海市激光学会2005年学术年会论文集.2005

[3].迟晓丽.离子辅助镀高功率CO_2激光薄膜研究[D].华中科技大学.2004

[4].迟晓丽,夏文建.高功率CO_2激光薄膜的离子辅助镀工艺进展[J].激光杂志.2003

[5].周鹏飞,高扬,陈桂莲.离子辅助镀膜技术及其应用[J].激光与红外.1991

[6].周鹏飞,高杨,陈桂莲.离子辅助镀膜[J].光学仪器.1990

[7].恭义.“宽束冷阴极离子源及其在离子辅助镀膜中的应用”课题通过机电部组织的鉴定[J].西安工业大学学报.1989

论文知识图

离子辅助镀膜结构示意图离子辅助镀膜示意图离子辅助镀膜机的原理图-5典型的离子辅助镀膜装置图离子辅助镀膜示意图离子辅助镀膜示意图

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