制备工艺参数对无氢类金刚石薄膜结构及光学性能的影响

论文摘要

采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜。采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能。结果表明,溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响。薄膜内部sp~3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小,随工作气压的增大而增加,随氩气流量的增加先增大后减小。在工作气压为2.0Pa时,可制备出I_D/I_G为0.86、可见光区平均透过率为85%、光学带隙为1.68eV的DLC薄膜。

论文目录

• 1 引言
• 2 实验方法
•   2.1 样品的制备
•   2.2 样品表征与性能测试
• 3 结果分析与讨论
•   3.1 拉曼光谱分析
•   3.2 DLC薄膜光学性能分析
•   3.3 SEM分析
•   3.4 XPS分析
• 5 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 冯建,姜宏,马艳平,张振华,那聪

关键词: 类金刚石薄膜,磁控溅射,透过率,拉曼光谱

来源: 材料科学与工程学报 2019年01期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 无机化工,材料科学,工业通用技术及设备

单位: 海南大学材料与化工学院,南海海洋资源利用国家重点实验室,海南省特种玻璃重点实验室,海南中航特玻科技有限公司

基金: 国家自然科学基金资助项目(51562008),国家重点研发计划资助项目(2016YFC0700804),海南省重点研发计划资助项目(ZDYF2016017)

分类号: TB383.2;TQ163

DOI: 10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.01.008

页码: 40-46+76

总页数: 8

文件大小: 699K

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