全文摘要
本实用新型公开了一种SPM槽及防止SPM槽槽底破裂的结构，包括接头组件和进液管，接头组件包括第一接头和第二接头，所述进液管与第一接头相连，第一接头固定在第二接头上，第二接头设置在SPM槽的固定板上，第二接头的下部设置有喷淋结构。本实用新型能够使从进液管中流出的去离子水均匀喷洒散落在槽体底部，使去离子水与浓硫酸均匀接触，有效解决了槽体局部受热不均匀，槽体容易破裂的问题，延长了SPM槽的使用寿命，消除了企业因石英槽破损导致的经济损失及可能的人员伤亡隐患。
主设计要求
1.一种防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，包括进液管（1）和接头组件，所述接头组件包括第一接头（2）和第二接头（3），所述进液管（1）与第一接头（2）相连接，第一接头（2）固定在第二接头（3）上，第二接头（3）设置在固定板（4）上，固定板（4）设置在所述SPM槽（5）的顶部，所述第二接头（3）的下部设置有喷淋结构。
设计方案
1.一种防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，包括进液管（1）和接头组件，所述接头组件包括第一接头（2）和第二接头（3），所述进液管（1）与第一接头（2）相连接，第一接头（2）固定在第二接头（3）上，第二接头（3）设置在固定板（4）上，固定板（4）设置在所述SPM槽（5）的顶部，所述第二接头（3）的下部设置有喷淋结构。
2.根据权利要求1所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述喷淋结构（6）与所述SPM槽（5）的槽底之间的距离为220mm-245mm。
3.根据权利要求2所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述喷淋结构（6）为固定在第二接头（3）下部的喷嘴。
4.根据权利要求1所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述第二接头（3）的内部设置有一个锥形台阶孔（7），所述锥形台阶孔（7）的内壁上设置有内螺纹。
5.根据权利要求4所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述锥形台阶孔（7）内壁上的内螺纹为NPT锥螺纹。
6.根据权利要求4所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述第二接头（3）的上端面与固定板（4）的上端面相齐平。
7.根据权利要求1所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述第一接头（2）采用的是PFA接头。
8.根据权利要求1所述的防止SPM槽槽底破裂的结构，其特征在于，所述进液管（1）采用的是PFA管。
9.一种SPM槽，其特征在于，所述SPM槽的槽体上设置有权利要求1-8中任一项所述的防止SPM槽槽底破裂的结构。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及湿法清洗技术领域，尤其涉及一种SPM槽及防止SPM槽槽底破裂的结构。
背景技术
在全球半导体产业向大陆转移的过程中，半导体设备国产化具有重要战略意义。随着国家政策与资金的持续支持，国产化设备持续的、高强度的研发投入和核心技术的自主掌握日益提升，其中尤其是湿法槽式清洗设备，凭借着国内资深工程师的多年经验，各种新设计、新创意的设备产品也应需而生。
湿法槽式清洗设备会大量使用强酸强碱等腐蚀性化学药品，其中SPM槽为采用石英材质加工而成的槽体，用来盛放强酸化学液（主要成分是96%浓硫酸）。
SPM槽内的化学液会定期更换，当化学液排完后，需要对槽体进行清洗。然而，由于排放时，槽体内的液体无法完全排放干净，通过进液管向槽体内通入去离子水进行清洗时，由于浓硫酸遇水会产生大量的热，而去离子水落到槽体底部时，其与SPM槽的接触面积较小，SPM槽内的残留化学液会与去离子水瞬间接触，释放出大量的热，使石英槽底部受热不均匀，导致槽体破裂，甚至会造成厂家的经济损失和人员伤亡。
发明内容
有鉴于此，本实用新型提供了一种SPM槽及防止SPM槽槽底破裂的结构，用以解决通过进液管排放到SPM槽的去离子水与槽体的接触面积较小，会使槽体破裂，从而造成经济损失和人员伤亡的问题。
一种防止SPM槽槽底破裂的结构，包括进液管和接头组件，所述接头组件包括第一接头和第二接头，所述进液管与第一接头相连接，第一接头固定在第二接头上，第二接头设置在固定板上，固定板设置在所述SPM槽的顶部，所述第二接头的下部设置有喷淋结构。
优选的，所述喷淋结构与所述SPM槽的槽底之间的距离为220mm-245mm。
优选的，所述喷淋结构为固定在第二接头下部的喷嘴。
优选的，所述第二接头的内部设置有一个锥形台阶孔，所述锥形台阶孔的内壁上设置有内螺纹。
优选的，所述锥形台阶孔内壁上的内螺纹为NPT锥螺纹。
优选的，所述第二接头的上端面与固定板的上端面相齐平。
优选的，所述第一接头采用的是PFA接头。
优选的，所述进液管采用的是PFA管。
一种SPM槽，所述SPM槽的槽体上设置有所述的防止SPM槽槽底破裂的结构。
本实用新型的有益效果是：本实用新型结构简单、使用方便，通过设置接头组件和进液管，将接头组件固定在SPM槽上，将进液管固定在接头组件上，并在接头组件的下部设置喷淋结构，使从进液管中流出的去离子水均匀喷洒散落在槽体底部，使去离子水与浓硫酸均匀接触，SPM槽底部受热均匀，有效解决了槽体局部受热不均匀，槽体容易破裂的问题，延长了SPM槽的使用寿命，消除了企业因石英槽破损导致的经济损失及可能的人员伤亡隐患。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1是防止SPM槽槽底破裂的结构的立体结构示意图。
图2是SPM槽的结构图。
图3是图3的纵剖图。
图4是第二接头的结构示意图。
图中标号的含义为：
1为进液管、2为第一接头、3为第二接头、4为固定板、5为SPM槽、6为喷淋结构、7为锥形台阶孔。
具体实施方式
为了更好的理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型实施例进行详细描述。
应当明确，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；除非另有规定或说明，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
本说明书的描述中，需要理解的是，本申请实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本申请实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。
本实用新型给出一种防止SPM槽槽底破裂的结构，及槽体上安装有该结构的SPM槽。
本申请的防止SPM槽槽底破裂的结构，通过设置接头组件和进液管1，将接头组件固定在SPM槽5上，进液管1固定在接头组件上，并在接头组件上设置喷淋结构6，使从进液管1中流出的去离子水均匀喷洒散落在槽体底部，使去离子水与浓硫酸均匀接触，SPM槽5底部受热均匀，有效解决了槽体局部受热不均匀，槽体容易破裂的问题，延长了SPM槽5的使用寿命，消除了企业因石英槽破损导致的经济损失及可能的人员伤亡隐患。
参照图1，其为本实用新型的防止SPM槽槽底破裂的结构的结构示意图。如图所示，所述防止SPM槽槽底破裂的结构包括接头组件和进液管1。
具体地，接头组件包括第一接头2和第二接头3。进液管与第一接头2相连接，第一接头2固定在第二接头3上，第二接头3设置在固定板4上，固定板4固定设置在所述SPM槽5的顶部。第二接头3的下部固定有一个喷淋结构6，喷淋结构6与所述SPM槽5的槽底之间的距离为220mm-245mm。
本实施例中，第一接头2采用的是PFA接头；第二接头3的内部设置有一个锥形台阶孔7，锥形台阶孔7的内壁上设置有内螺纹，具体可设置为NPT锥螺纹。第二接头3固定在固定板上，第二接头3的上端面与固定板4的上端面相齐平，第一接头2螺纹固定在第二接头3上。
本实施例中，进液管1采用的是PFA管，喷淋结构6为安装在进液管1的出液口处的喷嘴。
使用过程中，首先，将固定板4卡在SPM槽5的顶部，并通过紧固件进行固定。然后，将第二接头3卡在固定板4上的通孔内，将第一接头2螺纹固定在第二接头3上，将安装有喷嘴的进液管1穿插在第一接头2和第二接头3内，并使其下部的喷嘴与SPM槽5的槽底之间保持220mm-245mm的距离。最后，向进液管1内通入去离子水，去离子水通过喷嘴均匀喷洒散落在槽体底部，使去离子水与浓硫酸均匀接触，对槽体进行清洗。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型保护的范围之内。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920120485.6
申请日:2019-01-24
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:31(上海)
授权编号:CN209199890U
授权时间:20190802
主分类号:H01L 21/67
专利分类号:H01L21/67
范畴分类:38F;23E;
申请人:上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
第一申请人:上海至纯洁净系统科技股份有限公司
申请人地址:200241 上海市闵行区紫海路170号
发明人:李志锋;许峯嘉;高飞翔
第一发明人:李志锋
当前权利人:上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体（上海）有限公司
代理人:杜冰云
代理机构:31105
代理机构编号:上海智力专利商标事务所（普通合伙）
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计