高纯电子级SiF4中氟硅醚阻聚剂的设计及其性能

高纯电子级SiF4中氟硅醚阻聚剂的设计及其性能

论文摘要

在高纯电子级四氟化硅生产与纯化中,很容易产生氟硅醚杂质,甚至可以与四氟化硅进一步聚合生成氟硅醚高聚物。该高聚物可从胶体迅速聚集成颗粒,很容易堵塞管道和吸附剂,极易发生安全事故。根据硅醚键氟化断裂的化学性质,设计了一系列基于金属氟化物组成的氟硅醚阻聚剂。结果显示,Ag F2阻聚剂具有阻聚热力学效率高、动力学速率快的特点,可以使氟硅醚杂质有效控制浓度在20×10-6以下。四氟化硅重复50次(每次用量10kg)通过Ag F2阻聚剂仍然具有优秀的阻聚性能,故该阻聚剂具有良好的长期稳定性。

论文目录

  • 0引言
  • 1实验
  •   1.1材料与仪器
  •   1.2实验方法
  •     1.2.1阻聚剂的制备
  •     1.2.2阻聚性能评价试验
  • 2结果与讨论
  •   2.1不同金属氟化物阻聚剂的初筛
  •   2.2不同氟化银浓度的阻聚性能
  •   2.3氟化银阻聚剂的稳定性
  • 3结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 马建修,靖宇,杨振建,汤萍,王新鹏

    关键词: 四氟化硅,阻聚,硅醚,纯化

    来源: 低温与特气 2019年01期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 绿菱电子材料(天津)有限公司

    分类号: TQ127.2

    页码: 6-10

    总页数: 5

    文件大小: 211K

    下载量: 39

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