磁场作用下硅晶体生长的应用研究现状

针对静态磁场和非静态磁场在硅晶体生长中的应用研究现状,综述了磁场对硅晶体生长过程中熔体流动、固液界面形态、杂质含量及分布的影响,重点对比分析了静态磁场与非静态磁场的特点。总结了该应用当前存在的问题,并对未来的技术发展进行了展望。

1 磁场的类型及作用原理

2 静态磁场的应用

2.1 轴向磁场

2.2 横向磁场

2.3 勾型磁场

3 非静态磁场的应用

3.1 行波磁场

3.2 交变磁场

3.3 旋转磁场

3.4 复合电场磁场

4 结束语

类型: 期刊论文

作者: 饶森林,张发云,罗玉峰,熊含梦,李云明,胡云,章娟

关键词: 磁场,晶体硅,固液界面,熔体流动

来源: 铸造技术 2019年02期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

专业: 电力工业

单位: 新余学院新能源科学与工程学院,江西省高等学校硅材料重点实验室,南昌大学机电工程学院,华东交通大学

基金: 国家自然科学基金资助项目(51664047),江西省高等学校科技落地计划面上项目(KJLD12050),江西省科技支撑计划面上项目(20123BBE50116),江西省教育厅科学技术研究项目(GJJ161200,GJJ161199)

分类号: TM914.4

DOI: 10.16410/j.issn1000-8365.2019.02.024

页码: 229-234

总页数: 6

文件大小: 1183K

下载量: 149

猜你喜欢