导读:本文包含了掠出射论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:射线,荧光,掠出,薄膜,全反射,电介质,陶瓷。
掠出射论文文献综述
杨君,刘志国,徐清,韩东艳,林晓燕[1]（2009）在《掠出射微区X射线荧光分析系统的建立及其在薄膜分析中的应用》一文中研究指出建立了应用导管X光透镜的掠出射微区X射线荧光分析系统,并将该系统应用于纳米薄膜的分析。为了提高入射X射线的强度并提高系统的空间分辨率,选用焦斑为41.7μm的会聚透镜对原级X射线进行会聚,并在探测器前加上50μm的狭缝以提高掠出射角扫描的角度分辨率。为了提高工作效率,编写了该系统的自动控制软件,实现了样品的自动扫描。利用该系统对采用金属蒸汽真空电弧(MEVVA)源离子束和薄膜沉积技术制备的纳米薄膜进行了掠入射X射线荧光和二维扫描分析。实验结果表明:该系统能有效地分析纳米厚度的薄膜,通过对薄膜进行掠出射角扫描分析和表面的二维扫描分析,得到了薄膜的厚度,密度及均匀性等信息。微区分析的空间分辨率可达到41.7μm,实际空间分辨率为扫描步长50μm。系统可用于分析薄膜样品,且荧光强度高,所需时间短,获得的信息全面丰富,数据可靠。(本文来源于《光学精密工程》期刊2009年01期）
杨君,刘志国,徐清,韩东艳,林晓燕[2]（2008）在《掠出射微区X射线荧光分析系统的建立及其在薄膜分析中的应用》一文中研究指出建立了应用导管X光透镜的掠出射微区X射线荧光分析系统并将该系统应用于纳米薄膜的分析。为了提高入射X射线的强度并提高系统的空间分辨率,选用焦斑为41.7μm的会聚透镜对原级X射线进行会聚并在探测器前加上50μm的狭缝以提高掠出射角扫描的角度分辨率。另外,为了节省测量时间,提高工作效率,编写了该系统的自动控制软件,实现样品的自动扫描。利用该系统对采用MEVVA(金属蒸气真空电弧)源离子束和薄膜沉积技术制备的纳米薄膜进行了掠出射X射线荧光和二维扫描分析。实验结果表明:该系统对能有效的分析纳米厚度的薄膜,通过对薄膜进行掠入射角扫描(本文来源于《第4届国际压电驱动材料及应用研讨会论文集》期刊2008-12-01）
魏向军,徐清[3]（2006）在《掠出射X射线荧光谱仪性能评测》一文中研究指出通过对GaAs(100)抛光晶片在相同条件下掠出射X射线荧光实验的可重复性研究,并结合常规光源与同步辐射光源X射线掠出射荧光实验结果的对比,证明自行研制的掠出射X射线荧光平台可重复性较好,稳定性较高,实验方法的设计是合理的。理论计算与实验曲线符合的较好,证明掠出射X射线荧光实验中用单晶的全反射临界角标定掠出射角度的方法是可行的。用标准晶片掠出射X射线荧光曲线的微分评测了实际角发散度的大小。(本文来源于《光学学报》期刊2006年09期）
巩岩,陈波,尼启良,崔明启,赵屹东[4]（2005）在《同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚》一文中研究指出掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能。尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成。以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合。同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象。(本文来源于《高能物理与核物理》期刊2005年11期）
仇满德,姚子华[5]（2005）在《锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料表面的掠出射角X射线能谱微分析》一文中研究指出在前期工作中,我们对掠出射角X射线能谱微分析的方法和机理进行了研究。在此基础上,本文采用此方法对锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料的表面及基体相中锶的含量进行了研究。结果表明,在一定掺杂比的工艺中,陶瓷表面锶的含量比体相中的小,这就为掺杂陶瓷材料的研究提供了新数据(本文来源于《电子显微学报》期刊2005年04期）
仇满德,姚子华[6]（2005）在《锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料表面的掠出射角X射线能谱微分析》一文中研究指出在前期工作中,我们对掠出射角X射线能谱微分析的方法和机理进行了研究。在此基础上,本文采用此方法对锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料的表面及基体相中锶的含量进行了研究。结果表明,在一定掺杂比的工艺中,陶瓷表面锶的含量比体相中的小,这就为掺杂陶瓷材料的研究提供了新数据(本文来源于《2005年全国电子显微学会议论文集》期刊2005-06-30）
陈雪亮,巩岩,陈波[7]（2004）在《掠出射X射线荧光分析技术与掠入射X射线荧光分析技术》一文中研究指出依据工作原理,比较了掠出射X射线荧光分析技术(GEXRF)和掠入射X射线荧光分析技术(GI XRF)的优缺点,比较角度包括实验装置、探测限、可探测元素范围、基体效应以及实验精度。比较结果表明,GEXRF的优点体现为:对实验装置要求低,对轻元素(4<Z<20)特别灵敏,能对大样品进行检测,实验精度高;缺点体现为:临界厚度小,探测限高。"对轻元素特别灵敏"的特点决定了GEXRF的应用领域将主要集中在化学元素微量和痕量分析以及半导体工业中Si薄膜表面轻元素检测等方面。(本文来源于《光学精密工程》期刊2004年02期）
巩岩,尼启良,陈波,曹健林[8]（2002）在《掠出射X射线荧光光谱仪研制》一文中研究指出掠出射X射线荧光分析技术是分析薄膜特性和介质表面的一种重要工具。文中简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种在实验室里由激发光源、样品承载系统、色散系统、探测系统和数据收集及处理系统构成的掠出射X射线荧光光谱仪系统,并给出了利用55Fe放射性同位素标定该光谱仪系统的试验结果。(本文来源于《光学精密工程》期刊2002年06期）
巩岩,陈波,尼启良,曹建林,王兆岚[9]（2002）在《掠出射X射线荧光分析》一文中研究指出掠出射X射线荧光分析技术是全反射X射线荧光分析技术的延伸和发展 ,文章介绍了掠出射X射线荧光分析技术的形式、特点、基本原理和作者在实验室搭建的实验装置 ,简述了掠出射X射线荧光分析技术的发展史 ,以及该技术在化学元素微量和痕量分析及薄膜特性分析等领域中的应用 ,展望了这种技术今后的发展前景 .(本文来源于《物理》期刊2002年03期）
掠出射论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
建立了应用导管X光透镜的掠出射微区X射线荧光分析系统并将该系统应用于纳米薄膜的分析。为了提高入射X射线的强度并提高系统的空间分辨率,选用焦斑为41.7μm的会聚透镜对原级X射线进行会聚并在探测器前加上50μm的狭缝以提高掠出射角扫描的角度分辨率。另外,为了节省测量时间,提高工作效率,编写了该系统的自动控制软件,实现样品的自动扫描。利用该系统对采用MEVVA(金属蒸气真空电弧)源离子束和薄膜沉积技术制备的纳米薄膜进行了掠出射X射线荧光和二维扫描分析。实验结果表明:该系统对能有效的分析纳米厚度的薄膜,通过对薄膜进行掠入射角扫描
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
掠出射论文参考文献
[1].杨君,刘志国,徐清,韩东艳,林晓燕.掠出射微区X射线荧光分析系统的建立及其在薄膜分析中的应用[J].光学精密工程.2009
[2].杨君,刘志国,徐清,韩东艳,林晓燕.掠出射微区X射线荧光分析系统的建立及其在薄膜分析中的应用[C].第4届国际压电驱动材料及应用研讨会论文集.2008
[3].魏向军,徐清.掠出射X射线荧光谱仪性能评测[J].光学学报.2006
[4].巩岩,陈波,尼启良,崔明启,赵屹东.同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚[J].高能物理与核物理.2005
[5].仇满德,姚子华.锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料表面的掠出射角X射线能谱微分析[J].电子显微学报.2005
[6].仇满德,姚子华.锶掺杂钛酸钡陶瓷介电材料表面的掠出射角X射线能谱微分析[C].2005年全国电子显微学会议论文集.2005
[7].陈雪亮,巩岩,陈波.掠出射X射线荧光分析技术与掠入射X射线荧光分析技术[J].光学精密工程.2004
[8].巩岩,尼启良,陈波,曹健林.掠出射X射线荧光光谱仪研制[J].光学精密工程.2002
[9].巩岩,陈波,尼启良,曹建林,王兆岚.掠出射X射线荧光分析[J].物理.2002
论文知识图
