论文摘要
采用磁控共溅射方法制备非晶硅银（a-Si∶Ag）薄膜,并对其进行飞秒激光辐照;采用扫描电子显微镜、拉曼光谱仪、积分球、半导体性能测试仪等,对辐照前后薄膜的表面形貌、微观结构以及光电性能等进行表征。结果表明:当辐照能量为300 mJ/cm2时,a-Si∶Ag薄膜表面无明显的刻蚀痕迹,薄膜中有纳米晶硅颗粒生成,薄膜中的Ag纳米晶长大;当辐照能量为600 mJ/cm2时,薄膜表面出现明显的刻蚀痕迹,Ag纳米晶进一步长大,然而,产生的纳米晶硅颗粒的尺寸却没有变化;被飞秒激光辐照后,a-Si∶Ag薄膜比辐照前的电阻率更小,同时,薄膜对可见-近红外波段的入射光产生了反射减弱现象。研究结果对基于a-Si∶Ag薄膜的忆阻神经突触器件性能的改善具有积极意义。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李东阳,Ilyas Nasir,宋宇浩,袁余涵,李伟
关键词: 薄膜,微结构,飞秒激光,光电性能
来源: 中国激光 2019年11期
年度: 2019
分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑,信息科技
专业: 物理学,材料科学,工业通用技术及设备,无线电电子学
单位: 电子科技大学光电科学与工程学院,西南民族大学信息材料四川省重点实验室,电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
基金: 国防科技创新特区项目,国家自然科学基金(61421002)
分类号: TB383.2;TN24
页码: 208-213
总页数: 6
文件大小: 2095K
下载量: 85
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