全文摘要
本实用新型公开了小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，包括设于光刻机平台上的定位件和三组传感器，所述定位件上设有L型直角卡槽与掩膜版的直角边适配接触，其中一组传感器用于测量掩膜版的直角顶点位置信息，另外两组传感器分别用于测量掩膜版在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。本实用新型适用于掩膜版制作技术领域，尤其涉及大尺寸光刻机制作小尺寸掩膜版上，扩大大尺寸光刻机的应用范围，在大尺寸光刻机上设计一种小板居中性检查装置，检查小尺寸掩膜版的位置和居中性，有效避免居中性偏移现象。
主设计要求
1.小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，包括设于光刻机平台(1)上的定位件(2)和三组传感器(3)，所述定位件(2)上设有L型直角卡槽与掩膜版(4)的直角边适配接触，其中一组传感器(3)用于测量掩膜版(4)的直角顶点位置信息，另外两组传感器(3)分别用于测量掩膜版(4)在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。
设计方案
1.小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，包括设于光刻机平台(1)上的定位件(2)和三组传感器(3)，所述定位件(2)上设有L型直角卡槽与掩膜版(4)的直角边适配接触，其中一组传感器(3)用于测量掩膜版(4)的直角顶点位置信息，另外两组传感器(3)分别用于测量掩膜版(4)在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。
2.根据权利要求1所述的小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，所述传感器(3)采用激光测距仪，定位件(2)上的L型直角卡槽的两条直角边与光刻机平台(1)一侧直角处的两条直角边平行；第一组激光测距仪设于光刻机平台(1)上的一条直角边上，用于测量掩膜版(4)直角顶点到激光测距仪所在直角边的直线距离；另外两组激光测距仪分别用于测量掩膜版(4)沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动距离信息。
3.根据权利要求1或2任一项所述的小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，还包括控制电脑(5)，所述控制电脑(5)与三组传感器(3)电性连接，三组传感器(3)将检测信息实时传送至控制电脑(5)。
4.根据权利要求3所述的小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，还包括报警器，在掩膜版(4)位置超出设定范围时，控制电脑(5)控制报警器发出报警信息。
5.根据权利要求1所述的小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，所述定位件(2)通过胶水层粘附固定在光刻机平台(1)上。
6.根据权利要求1所述的小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，其特征在于，所述定位件(2)是呈L型的板或杆结构。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及掩膜版制作技术领域，具体涉及一种小尺寸掩膜版居中性测量检查装置。
背景技术
掩膜版是一种负责将设计版图转移到玻璃或硅片等介质上的模板产品，其具有广泛的运用以及不可或缺的作用。制作掩膜版需要使用到步进式激光直写光刻机，由于应用行业的不同，光刻机也被设计成了不同尺寸，大尺寸光刻机只能用来生产大尺寸光刻掩膜版(大尺寸光刻掩膜版为330mm-2000mm之间)，主要应用于FPD和TP行业，小尺寸光刻机用来制作小尺寸光刻掩膜版(小尺寸掩膜版为330mm以下尺寸)，主要应用于IC和封装等行业。为了应对复杂多变的市场需求，如果可以在一台光刻机上制作不同尺寸的光刻掩膜版，则可以避免重复购买光刻机硬件，实现降本增效的目的。
在大尺寸光刻机(P8&P10系列光刻机)应用中，光刻机设备由于设计结构及设计理念问题，未考虑到大型光刻机制作小尺寸掩膜版的功能。但在大尺寸光刻机的实际应用中，当出现产能不饱和或使用人希望开发小尺寸掩膜版产品时，大尺寸光刻机并不能进行小尺寸掩膜版的制作(当前P10最小的曝光尺寸800x800mm)。因为大尺寸光刻机没有设计小尺寸掩膜版的位置和居中性检查装置，掩膜版在制作过程中不能进行居中性测量，而居中性又是掩膜产品的一项重要性能参数。如果使用人想要进行小尺寸掩膜版产品的开发，必须额外再购买专用的小板光刻机才能完成，大幅提高了资金投入和生产成本。另外在光刻过程中，如光刻机发生大的振动或吸真空漏气等现象，会导致小尺寸掩膜版滑动，从而出现图形错位现象。当光刻机没有居中性检查装置时，需要等到产品检查和测量时才能发现异常，导致光刻和制程工序的浪费，并延误产品交期。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是：在大尺寸光刻机上开发小尺寸掩膜版时，无法对掩膜版的位置信息进行检测，不利于保障产品质量，本实用新型提供了解决上述问题的小尺寸掩膜版居中性测量检查装置。
本实用新型通过下述技术方案实现：
小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，包括设于光刻机平台上的定位件和三组传感器，所述定位件上设有L型直角卡槽与掩膜版的直角边适配接触，其中一组传感器用于测量掩膜版的直角顶点位置信息，另外两组传感器分别用于测量掩膜版在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。
进一步地，所述传感器采用激光测距仪，定位件上的L型直角卡槽的两条直角边与光刻机平台一侧直角处的两条直角边平行；第一组激光测距仪设于光刻机平台上的一条直角边上，用于测量掩膜版直角顶点到激光测距仪所在直角边的直线距离；另外两组激光测距仪分别用于测量掩膜版沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动距离信息。
进一步地，还包括控制电脑，所述控制电脑与三组传感器电性连接，三组传感器将检测信息实时传送至控制电脑。
进一步地，还包括报警器，在掩膜版位置超出设定范围时，控制电脑控制报警器发出报警信息。
进一步地，所述定位件通过胶水层粘附固定在光刻机平台上。
进一步地，所述定位件是呈L型的板或杆结构。
本实用新型具有如下的优点和有益效果：
1、本实用新型适用于掩膜版制作技术领域，尤其涉及大尺寸光刻机制作小尺寸掩膜版上，扩大大尺寸光刻机的应用范围，在大尺寸光刻机上设计一种小板居中性检查装置，检查小尺寸掩膜版的位置和居中性，有效避免居中性偏移现象；
2、本实用新型通过定位件起到对掩膜版的初步定位作用、其位置并作为传感器的测量基准，通过定位件与三组传感器构建二维的直角坐标系，用于实时检测光刻机平台上的掩膜版的位置，便于工作人员准确控制掩膜版的居中位置，防止制作过程中掩膜版偏移影响产品质量；且定位件可通过胶粘附结构固定在光刻机平台上，传感器可采用类似激光测距仪等现有的测距模块直接安装在光刻机平台的侧边上，结构简单，快速安装，且不会影响光刻机本身结构，适用性强。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中：
图1为本实用新型的主视图。
附图中标记及对应的零部件名称：1-光刻机平台，2-定位件，3-传感器，4-掩膜版，5-控制电脑。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本实用新型作进一步的详细说明，本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型，并不作为对本实用新型的限定。
实施例1
本实用新型提供了一种小尺寸掩膜版居中性测量检查装置，包括设于光刻机平台1上的定位件2和三组传感器3，定位件2上设有L型直角卡槽与掩膜版4的直角边适配接触，其中一组传感器3用于测量掩膜版4的直角顶点位置信息，另外两组传感器3分别用于测量掩膜版4在沿L型直角卡槽的两条直角边延伸方向上的移动位置信息。
实施例2
在实施例1的基础上进一步改进，所述传感器3采用激光测距仪，三组激光测距仪分别安装在光刻机平台1的三个相邻侧边上，定位件2上的L型直角卡槽的两条直角边与光刻机平台1一侧直角处的两条直角边平行；第一组激光测距仪设于光刻机平台1上的一条直角边上，用于测量掩膜版4直角顶点到激光测距仪所在直角边的直线距离；另外两组激光测距仪分别用于测量所在侧边与掩膜版4的直线距离。
还包括控制电脑5和报警器，所述控制电脑5与三组传感器3电性连接，三组传感器3 将检测信息实时传送至控制电脑5；在掩膜版4位置超出设定范围时，控制电脑5控制报警器发出报警信息。
实施例3
在实施例2的基础上进一步改进，所述定位件2通过胶水层粘附固定在光刻机平台1上，所述定位件2是呈L型的板或杆结构。
基于实施例3提供的检测装置的工作原理为：
首先，在光刻机平台1上粘贴一个具有L型直角卡槽的定位件2，用于固定掩膜版4原材的直角顶点作为原点位置，然后在光刻机平台1四周侧边处安装三组激光测距仪，并将相应的距离信息实时传输到控制电脑5中，根据传输回来的数据和掩膜版4的尺寸信息计算掩膜版4的位置和居中性，当掩膜版4的位置超出了设定范围后，控制电脑5会控制报警器发出报警声或提示灯闪烁等报警信息，提醒操作人员掩膜版4装载位置或装载尺寸错误，需要进行调整。当掩膜版4在光刻过程中因设备或环境故障导致其出现滑动时，如果超出了设定范围，会弹出报警界面，提醒操作人员，由操作人员判断是否中断光刻过程。具体原理为，通过L型直角卡槽构建直角坐标系，将掩膜版4的顶与L型直角卡槽的顶点适配接触作为坐标系的原点，L型直角卡槽的两个直角边延伸方向分别为x轴正半轴和y轴正半轴，其中一个激光测距仪用于测定初始位置下原点的位置，其余两个激光测距仪用于测定掩膜版沿x轴和y轴的移动位置信息；如，当掩膜版沿x轴正半轴偏移一定距离后，对应的激光测距仪检测到其所在位置到掩膜版的距离会相应减小。
采用本实用新型提供的检测装置用于检测掩膜版居中心的具体操作流程如下：
①测好定位件安装位置，按要求用胶水粘好并固定；
②光刻机平台左右两侧及下则安装三组激光测距仪，安装好后调整激光测量位置参数；
③根据激光测距仪反馈的三组数据及小尺寸掩膜版原材尺寸信息，计算掩膜版位置信息和居中性数据，并在控制软件上进行显示；
④根据客户居中性要求规范(通常是±0.5mm)，在控制电脑上设置居中性要求范围，如果出现超出要求的，则弹出提示框进行警告。操作人员需进行检查，然后重新上料。
以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920125558.0
申请日:2019-01-24
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:90(成都)
授权编号:CN209215869U
授权时间:20190806
主分类号:G03F 9/00
专利分类号:G03F9/00
范畴分类:30B;
申请人:成都路维光电有限公司
第一申请人:成都路维光电有限公司
申请人地址:610000 四川省成都市高新区(西区)天勤路839号5栋
发明人:林伟;刘玉闯
第一发明人:林伟
当前权利人:成都路维光电有限公司
代理人:胡晓丽
代理机构:51220
代理机构编号:成都行之专利代理事务所（普通合伙）
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计