不同种类表面活性剂对a面蓝宝石衬底CMP的影响

论文摘要

研究了在抛光液中分别添加非离子表面活性剂异辛醇聚氧乙烯醚(JFCE)、阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸(LAS)和阳离子表面活性剂十二烷基三甲基氯化铵(DTAC)对a面蓝宝石衬底化学机械抛光(CMP)去除速率和表面状态的影响。通过对抛光液中磨料粒径和Zeta电位的分析可知,JFCE、LAS对粒径和Zeta电位影响不大,DTAC对粒径和Zeta电位有一定影响,当DTAC体积分数增加到0.5%时,抛光液中会出现凝胶现象。采用原子力显微镜、接触角检测仪对CMP后蓝宝石表面状态进行了分析和表征,结果表明,在一定浓度范围内三种表面活性剂均有助于提高蓝宝石去除速率和降低表面粗糙度,当其体积分数均为0.4%时,使用添加DTAC的抛光液时a面蓝宝石的去除速率最大、表面粗糙度最低,更有利于衬底表面的洁净化。

论文目录

• 0 引言
• 1 实验
• 2 结果与讨论
•   2.1 表面活性剂对蓝宝石衬底去除速率的影响
•   2.2 表面形貌分析
•   2.3 接触角分析
•   2.4 作用机理分析
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 崔雅琪,牛新环,王治,周佳凯

关键词: 面蓝宝石衬底,化学机械抛光,表面活性剂,去除速率,表面粗糙度

来源: 半导体技术 2019年11期

年度: 2019

分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑

专业: 化学,有机化工

单位: 河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室

基金: 国家科技重大专项资助项目(2016ZX02301003-004-007),天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100),天津市企业科技特派员基金资助项目(18JCTPJC57000)

分类号: TQ423;O786

DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2019.11.010

页码: 883-887+898

总页数: 6

文件大小: 1722K

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