导读:本文包含了玻璃湿法刻蚀工艺论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:湿法,玻璃,微光,机电,系统,光刻,抗腐蚀。
玻璃湿法刻蚀工艺论文文献综述
黄君竹[1]（2015）在《AlNiGd金属玻璃相变光刻湿法刻蚀工艺研究》一文中研究指出光刻技术是整个半导体加工工艺的基础技术,在半导体制造体系中占有重要地位。但是随着科技的不断发展,传统有机光刻方法越来越临近其物理极限,近年来各种新型光刻方法不断被提出,其中相变光刻技术被认为是最有潜力的新型光刻技术之一。而新型相变光刻技术则是采用无机相变材料作为光刻胶,利用热致相变的原理使用激光器使材料局部发生相变,利用材料非晶态和晶态在刻蚀液中刻蚀速率的不同来得到刻蚀图形。但是现今人们对于相变光刻的研究主要集中在硫系化合物上。本文选用新型相变光刻材料——AlNiGd金属玻璃材料来取代传统的硫系化合物相变材料。对基于AlNiGd金属玻璃相变光刻的湿法工艺进行了深入的研究与探讨。本文首先使用磁控溅射法制备出单层和多层Al Ni Gd金属玻璃薄膜样品(ZnS-SiOB2B/AlNiGd/ZnS-SiOB2B),在此基础上通过实验筛选,最终分别选用混酸(质量分数为2%硝酸、5%冰醋酸、80%磷酸、13%水)和HF溶液刻蚀液作为单层AlNiGd金属玻璃薄膜样品和多层AlNiGd金属玻璃薄膜结构刻蚀液,对刻蚀实验方法进行了摸索与优化。然后利用真空退火工艺对AlNiGd金属玻璃薄膜样品和单层ZnS-SiOB2B(80%:20%)薄膜进行退火,之后使用混酸(质量分数为2%硝酸、5%冰醋酸、80%磷酸、13%水)和HF溶液分别对退火前后的Al Ni Gd金属玻璃薄膜样品和单层ZnS-SiOB2B(80%:20%)薄膜样品进行刻蚀,测试出退火前后AlNiGd金属玻璃薄膜样品和单层ZnS-SiOB2B(80%:20%)薄膜样品在所选刻蚀液中的选择刻蚀比。在此基础上引进课题组搭建的相变光刻平台,利用光学平台对单层和多层的薄膜样品进行光刻,再次采用之前所选的刻蚀液,对光刻后的样品进行刻蚀,最终得到预期的刻蚀图形。(本文来源于《华中科技大学》期刊2015-01-19）
许晓昕,高翔,徐静,吴亚明[2]（2007）在《Pyrex玻璃的湿法深刻蚀及表面布线工艺》一文中研究指出高表面质量的pyrex玻璃对提高MEMS器件尤其是光学器件性能至关重要。本文采用TiW/Au+AZ4620厚胶作为多层复合刻蚀掩模,重点研究了玻璃湿法深刻蚀工艺中提高表面质量的方法,并分析了钻蚀和表面粗糙度产生的机理。结果表明,采用TiW/Au+AZA620厚胶的多层掩膜比TiW/Au掩膜能更有效地避免被保护玻璃表面产生针孔缺陷,减轻钻蚀。在纯HF中添加HCl,可以得到更光洁的刻蚀表面,当HF与HCl体积配比为10:1时,玻璃刻蚀面粗糙度由14.1nm减小为2.3nm。利用该工艺,成功实现了pyrex7740玻璃的150μm深刻蚀,保护区域的光学表面未出现钻蚀针孔等缺陷,同时完成了金属引线和对准标记的制作,为基于玻璃材料的MEMS器件制作提供了一种新的加工方法。(本文来源于《功能材料与器件学报》期刊2007年06期）
黄腾超,沈亦兵,陈海星,娄迪,侯西云[3]（2004）在《应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究》一文中研究指出介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价。(本文来源于《2004年光学仪器研讨会论文集》期刊2004-06-30）
黄腾超,沈亦兵,陈海星,娄迪,侯西云[4]（2004）在《应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究》一文中研究指出介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价。(本文来源于《光学仪器》期刊2004年02期）
谢海波,傅新,刘玲,杨华勇,徐东[5]（2003）在《基于玻璃湿法刻蚀的微流控器件加工工艺研究》一文中研究指出介绍了以玻璃为基体材料的微加工工艺流程,重点研究了玻璃湿法刻蚀工艺,选择多种不同成分的刻蚀剂进行了对比性刻蚀试验,同时研究了刻蚀温度、搅拌方式和清洗间隔时间等多种刻蚀条件对刻蚀效果的影响,研究主要以高刻蚀速率的深度刻蚀以及高表面质量的毛细管道刻蚀两种典型应用为目标。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价,为基于玻璃材质的微流控器件加工工艺提供了基本选择方案及实际经验曲线。(本文来源于《机械工程学报》期刊2003年11期）
玻璃湿法刻蚀工艺论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
高表面质量的pyrex玻璃对提高MEMS器件尤其是光学器件性能至关重要。本文采用TiW/Au+AZ4620厚胶作为多层复合刻蚀掩模,重点研究了玻璃湿法深刻蚀工艺中提高表面质量的方法,并分析了钻蚀和表面粗糙度产生的机理。结果表明,采用TiW/Au+AZA620厚胶的多层掩膜比TiW/Au掩膜能更有效地避免被保护玻璃表面产生针孔缺陷,减轻钻蚀。在纯HF中添加HCl,可以得到更光洁的刻蚀表面,当HF与HCl体积配比为10:1时,玻璃刻蚀面粗糙度由14.1nm减小为2.3nm。利用该工艺,成功实现了pyrex7740玻璃的150μm深刻蚀,保护区域的光学表面未出现钻蚀针孔等缺陷,同时完成了金属引线和对准标记的制作,为基于玻璃材料的MEMS器件制作提供了一种新的加工方法。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
玻璃湿法刻蚀工艺论文参考文献
[1].黄君竹.AlNiGd金属玻璃相变光刻湿法刻蚀工艺研究[D].华中科技大学.2015
[2].许晓昕,高翔,徐静,吴亚明.Pyrex玻璃的湿法深刻蚀及表面布线工艺[J].功能材料与器件学报.2007
[3].黄腾超,沈亦兵,陈海星,娄迪,侯西云.应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究[C].2004年光学仪器研讨会论文集.2004
[4].黄腾超,沈亦兵,陈海星,娄迪,侯西云.应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究[J].光学仪器.2004
[5].谢海波,傅新,刘玲,杨华勇,徐东.基于玻璃湿法刻蚀的微流控器件加工工艺研究[J].机械工程学报.2003
论文知识图
