导读:本文包含了超光滑表面论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献，主要关键词:光滑,表面,零件,光学,陀螺仪,形貌,射流。
超光滑表面论文文献综述写法
解格飒,王红军,王大森,田爱玲,刘丙才[1]（2019）在《超光滑表面缺陷的分类检测研究》一文中研究指出为了区分超光滑表面上方存在的微小粒子、亚表面缺陷、微粗糙度叁种缺陷产生的散射光,并得到能够探测这叁种缺陷的最佳区域,将双向反射分布函数(Bidirectional Reflection Distribution Function,BRDF)与琼斯矩阵结合,给出了叁种缺陷在ss、sp、ps、pp四种偏振状态下的偏振系数。在此基础上,模拟和分析了叁种缺陷在四种偏振状态下与散射方位角的关系。结果表明:利用p偏振入射光引起的p偏振散射光能将这几种缺陷区分开。根据叁种缺陷与散射方位角变化关系的不同,给出了叁种缺陷的最佳探测区域及实现方法。(本文来源于《红外与激光工程》期刊2019年11期）
徐国敏[2]（2019）在《光耦合胶体射流创生单晶硅超光滑表面仿真及试验研究》一文中研究指出随着光学与微电子领域的不断发展,对零件的表面精度、分辨率、稳定性以及形貌等各方面结构性能都提出了严格的标准,尤其是针对光学元件,更是要求其无表面损伤以及纳米级别的表面粗糙度。目前在光学制造领域,复杂曲面由于其自身显着的优点因而在市场上的运用越来越广泛,但随之而来的是如何实现复杂曲面超光滑表面的大规模加工制造这一技术难题。为此,全球光学加工领域的研究学者都致力于开发新的超光滑表面加工技术,以期实现各种复杂曲面光学元件超光滑表面的生成。本文基于紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工技术,对光耦合TiO_2纳米颗粒胶体射流创生单晶硅超光滑表面加工过程中,胶体环境中的TiO_2纳米颗粒与两种单晶硅表面结构处的Si原子之间的相互作用关系以及后续单晶硅界面原子键的断裂采用了仿真与实验相结合的研究方法,对光耦合下胶体射流单晶硅超光滑表面生成机理进行分析。由于光耦合胶体射流加工是依赖于胶体中的纳米颗粒在光场以及射流动压场的作用下与待加工表面原子发生一系列的界面化学反应从而实现材料表面的原子级去除,所以需用到量子化学研究方法对抛光过程中各个分子、原子间的具体反应路径以及体系能量的变化进行仿真模拟计算。具体的研究内容包括以下几个方面:(1)研究了胶体环境下,纳米颗粒与单晶硅表面原子间的行为路径。在量子化学计算的基础上,通过Material Studio软件建立了锐钛矿型TiO_2模型及其团簇模型与单晶硅“平”、“凸”两种表面模型。利用CASTEP版块进行了,OH基团与锐钛矿型TiO_2团簇、OH基团与单晶硅表面、锐钛矿型TiO_2团簇与单晶硅表面的吸附过程的模拟计算,对比了OH基团与TiO_2团簇模型在两种单晶硅表面结构发生化学吸附的难易程度,最后对TiO_2团簇脱离两种单晶硅表面结构时,表面Si-Si键的断裂所需要的能量进行了计算。仿真计算结果表明:在光耦合TiO_2纳米颗粒胶体射流创生单晶硅超光滑表面加工过程中TiO_2纳米颗粒与单晶硅工件表面间界面反应主要为原子间的键合作用,为光耦合胶体射流创生单晶硅超光滑表面机理奠定了理论基础。(2)分析了配制的TiO_2纳米颗粒胶体的光催化活性。对TiO_2纳米颗粒粉末进行了X射线衍射(XRD)检测,并利用该粉末配制了TiO_2纳米颗粒胶体。通过纳米粒度分析仪以及透射电子显微镜(TEM)对胶体中的TiO_2纳米颗粒进行了粒度分析表征检测。接着对配制好的胶体进行了降解甲基橙溶液的光催化活性对比实验。(3)对单晶硅硅片进行了光耦合胶体射流抛光试验。利用课题组自主研发的好的射流加工平台对单晶硅工件表面进行了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流抛光试验,利用原子力显微镜(AFM)对射流加工前后单晶硅表面形貌进行检测,结果表明:光耦合射流抛光后的单晶硅工件获得了获得亚纳米级别的超光滑表面。(4)通过吸附对比试验,对第一性原理仿真结果进行了验证。根据量子化学仿真计算结果,胶体中的TiO_2纳米颗粒与单晶硅表面发生化学碰撞后形成了新的Ti-O-Si共价键,为了对仿真结果进行验证,设计了TiO_2纳米颗粒在单晶硅表面的吸附实验。对比了射流加工后的单晶硅表面,吸附实验后的单晶硅表面以及未经任何处理的单晶硅表面的扫描电子显微镜(SEM)表征结果以及叁者的红外反射光谱,由此证明了单晶硅表面与TiO_2纳米颗粒发生化学吸附后的确会在单晶硅表面生成新的共学键。(本文来源于《兰州理工大学》期刊2019-03-18）
崔金花[3]（2018）在《超光滑表面的构筑及其界面结构对表面润湿性能的影响》一文中研究指出基于“荷叶效应”的超疏水表面已经引起了人们的广泛关注。虽然该类表面具有很好的疏水性质,但对有机液体的疏油性以及对其他复杂液体非浸润性并不好;限制其实际应用的因素还有不耐高压,物理性破坏时无法自己修复以及制备成本高等。灌注液体的光滑多孔表面(SLIPS)是一种基于“猪笼草效应”的新型自清洁表面,根据设计,它不仅对水有很好的防浸润效果,对有机液体溶剂以及其他复杂液体也有极好的防浸润效果;高压环境对表面的超光滑特性也不会产生重要影响;当表面受到一定的物理性损伤时,能够自动修复。但是,关于超光滑表面的结构对其润湿行为的影响研究的较少。本课题选用几种具有不同结构参数的多孔氧化铝(AAO)模板为基底,模拟“猪笼草效应”,构筑灌注液体聚二甲基硅氧烷(PDMS)的超光滑表面,研究了不同种类液体在该表面的润湿行为,以及界面结构参数对液体润湿行为的影响。首先利用表面化学修饰,在具有不同结构参数的AAO模板表面接枝1H,1H,2H,2H-十七氟癸基叁乙氧基硅烷(PFDS)或甲基叁乙氧基硅烷(MTES),制备一系列低表面能的多孔疏水AAO模板。采用扫描电子显微镜(SEM)、电子能谱仪(EDS)和接触角测量仪(CA)对模板表面的结构、化学组成和润湿特性进行了研究。研究表明:四种结构参数不同的AAO(孔径分别为24.69±2.47 nm,44.00±4.00nm,112.50±12.50nm 和 327.87±9.81nm)在进行表面化学修饰以前都是亲水的,静态水滴接触角分别是28.4±0.3°,28.2±0.4°,28.8±0.4°和39.5±0.5°。多孔表面修饰PFDS后,随着模板孔径的增加,模板表面静态水滴接触角呈增加趋势,分别是 130.0±0.2°,133.3±0.2°,137.1 ±0.3° 和 145.1±0.3°。多孔表面修饰MTES后,静态水滴接触角有一定程度的增加,但是比修饰PFDS以后的模板表面的水滴接触角小的多;静态水滴接触角分别为94.5±0.3°,110.8±0.3°,98.05±0.2° 和 121.2±0.3°。由此可见,当孔径较小时,多孔表面的接触角增大的主要贡献来源于表面修饰的PFDS和MTES;当孔径达到一定值时,不仅PFDS和MTES对接触角作出贡献,水滴底部与空气的接触面积也作出了一定贡献。基于表面修饰的AAO模板为基底材料,利用毛细管原理和负压技术,在多孔AAO模板中灌注粘度分别为100mPa.s/20 ℃和350mPa.s/20 ℃的液体PDMS,制备一系列具有不同结构参数的灌注PDMS型超光滑表面,利用SEM对超光滑AAO模板进行了研究,超光滑AAO模板的纳米孔内填充满硅油,模板表面会有纳米孔轮廓。利用接触角测量仪对不同液体在光滑表面的润湿性能进行测定,探究了表面结构参数与光滑表面润湿特性的关系。研究结果表明,这类模板表面不仅对水有良好的防粘附性,对于有机液体溶剂也有防粘附效果;水滴滑动角随着模板孔隙率的增加而呈下降趋势,最小滑动角为10.7°,最大可达到51°。最后对于滑动角与模板孔隙率的关系提出类“Cassie-Baxter”模型机理,影响水滴在灌注PDMS型AAO模板表面的滑动的有两个因素,一是水滴与疏水AAO模板固体部分接触面积,另一个是水滴与PDMS接触面积。滑动角随着水滴与硅油接触面积的增大而减小。湿固化聚氨酯对多种基材都有着良好的黏结性能,在生物、医疗、建筑、汽车等行业上应用广泛,但是因其耐温性不高,应用范围受到了限制。本文主要用2,4,6-叁(二甲胺基甲基)苯酚(DMP-30)催化二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)叁聚,用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和二正丁胺法对合成过程进行跟踪,并建立-NCO特征峰(2270cm-1)与苯环峰(1520 cm-1)面积比与-NCO基团含量的关系,确定-NCO转化率与时间的关系,结果表明用NCO基团特征峰相对面积定性表示NCO基团的质量分数是可靠的。探究了 MDI聚合产物与预聚体的混合方式、MDI聚合程度以及MDI质量分数对聚氨酯密封胶耐高温性的影响。研究表明,引入异氰脲酸酯环的聚氨酯胶片的耐温性和180℃×30 min老化前后的力学性能相比于相同结构的聚氨酯都有提高,残炭率高,引入异氰脲酸酯环有利于提高聚氨酯的耐温性和耐温老化性能。(本文来源于《山东大学》期刊2018-11-14）
王广林,马瑾[4]（2018）在《浅谈超光滑表面加工技术》一文中研究指出超光滑表面加工技术属于超精密加工技术领域的前沿课题,是一个国家科学技术发展水平的重要标志,因此受到各国的重视。文章阐述了现有超光滑表面加工的先概念,详细介绍了浮法抛光、等离子体辅助抛光、浴法抛光和流体抛光法等技术。(本文来源于《山东工业技术》期刊2018年12期）
罗杰维[5]（2018）在《NiP超光滑表面CMP理论模型建立与工艺实验研究》一文中研究指出近年来,随着辊筒模具在工业制造领域得到了日益广泛的应用,对其精度和表面质量的要求也越来越高,与之相应的加工难度也越来越大,主要体现在:尺寸大、形状复杂;表面粗糙度要求达到超光滑级别;面形精度要求达到亚微米级别。同时,为防止模具在使用过程中表面被破坏,通常在表面镀覆在一层耐磨耐腐蚀的镍磷合金(Ni P)。在高精度辊筒模具制造过程中,超光滑抛光是保证模具表面质量的关键一步,因此所选择的抛光方法需要同时考虑到工件的材料和形状。针对镍磷合金的超光滑抛光方法有很多,主要有化学机械抛光、磁性混合流体抛光、电化学机械抛光等。常见的方法是化学机械抛光(CMP),该方法将机械、化学、流体作用结合在一起,能得到粗糙度小于1nm(Ra)的超光滑表面。由于柔性气囊能很好地贴合筒形工件表面,因此气囊抛光适合于辊筒模具的抛光。本课题研究将采用化学机械抛光与气囊抛光相结合的抛光方式,为后续高精度辊筒模具抛光做前期工艺准备。主要研究了以下内容:基于化学镀镍磷合金的镀层结构与性质,分析了在化学机械抛光过程中镍磷合金与抛光液中氧化剂成分的化学反应过程;根据单分子层去除机理和接触力学原理,建立了化学机械抛光的材料去除模型;根据表面粗糙度的定义和单个磨粒去除深度的概率模型,建立了镍磷合金化学机械抛光的表面粗糙度模型。通过各种类型的抛光垫和氧化剂特性比较,选择了合适的抛光垫类型和抛光液氧化剂成分;通过一系列工艺实验,确定了合适的抛光磨粒与抛光酸碱环境;通过正交实验,分析了抛光液主要成分对粗糙度的影响趋势,得到了能实现超光滑镍磷合金表面(Ra 0.695nm)的最优化学机械抛光液成分及配比;正交试验中主要工艺参数的实验结果与粗糙度模型理论分析结果基本吻合,对两者的差异进行了分析。通过正交试验,分析了气囊抛光主要工艺参数对粗糙度和材料去除深度的影响。综合两个评价指标,得到了最优抛光参数。为解决实验中产生的抛光纹问题,采用进动方式抛光,通过实验得到了最佳进动方式,最终得到了超光滑表面(Ra 0.540nm)。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2018-06-01）
王新海,马瑾,张永军[6]（2018）在《浅谈光学零件的超光滑表面加工方法》一文中研究指出随着光学零件在前沿技术中的广泛应用,超光滑表面加工技术已经成为当前研究的热点。文章阐述了超光滑表面的定义特点及机理,重点介绍目前国内常用的古典法抛光技术、磁流变抛光技术和气囊抛光技术等叁种超光滑表面加工方法,并简要的说明了各种方法的优缺点。(本文来源于《山东工业技术》期刊2018年06期）
顾洋[7]（2016）在《超光滑表面疵病检测系统设计》一文中研究指出针对超光滑E型镜的表面疵病检测需求,介绍了一套以数字CCD显微散射暗场成像为基础的子孔径拼接与旋转测试系统。采用暗场成像法检测疵病的原理,利用激光多角度、分区域照射元件表面,在4×5子孔径分布及15°转角的设定下,获得1mm单元的元件表面子孔径图像220幅。经过快速平移拼接算法及图像旋转融合算法的处理,得到一(本文来源于《第十六届全国光学测试学术交流会摘要集》期刊2016-09-25）
朱南南[8]（2016）在《超光滑表面特征光学检测的实验研究》一文中研究指出零件表面的散射特性和表面粗糙度对产品的性能具有十分重要的影响,本文基于激光散射原理设计了用于检测表面粗糙度和表面散射特性的多波长光纤传感器。光纤传感器的探头采用特殊的几何设计,用650nm、1310nm和1550nm激光作为光源,选择2mm的工作距离作为最佳测量距离,对不同表面粗糙度的样品(aR=0.10mm,0.20mm,0.40mm,0.80mm)进行了测试和分析。实验结果表明:(1)同一波长下,随着表面粗糙度的增大,以外磨样品为反射面测得的反射强度减小。在粗糙度相同的条件下,随着入射波长的增大,反射强度增大。(2)多波长光纤传感器可以精确地测量表面粗糙度,并能有效地减小系统误差。系统误差分析得到传感器的相对误差范围大约为3.56%~7.43%。(3)通过测得的散射强度比值与表面粗糙度的关系曲线可以看出粗糙面反射的散射强度比值与粗糙度具有良好的线性关系。(4)多波长光纤传感器测得的表面粗糙度的最小相对误差为2.92%,最大相对误差为13.4%,平均相对误差为7.48%。多波长光纤表面粗糙度传感器的测量精度是单波长光纤传感器的两倍。由于采用多波长光纤传感器测量表面粗糙度时,测量误差较大。为了更好地测量粗糙度,引入了支持向量机的概念,利用支持向量回归机来预测表面粗糙度。实验中采用的测试样本是研磨标准样品(aR=0.012mm,0.025mm,0.05mm,0.10mm),选择作为光源的激光器波长分别为650nm和1310nm,测量粗糙表面散射强度的最佳工作距离为2.5mm~3.5mm。利用LIBSVM软件对测量数据进行回归运算来获得目标值,结果表明:当入射波长为650nm时,回归预测的均方误差为6.40444×10-7,相关系数为0.999705,预测的平均相对误差为2.669%。当入射波长为1310nm时,回归预测的均方误差为6.72513×10-7,相关系数为0.999838,预测的平均相对误差为2.431%。随着入射波长的增大,表面粗糙度预测的平均误差减小。采用SVR计算可以使粗糙度预测的误差小于3%。入射光照射到粗糙表面上会在散射空间内形成散斑图像,而散斑场携带有大量粗糙表面的结构信息,因此,研究粗糙反射面形成的散斑场具有重大的意义。本文采用光束质量分析系统采集散斑图像,使用Matlab软件对散斑图像进行处理,通过空间平均法计算得到散斑对比度,利用二次多项式拟合建立散斑对比度与表面粗糙度的关系。实验结果表明:粗糙度越大,相对误差越小,相对误差最大值为12.5%;基于激光散斑平均对比度的表面粗糙度测量方法是可行的,这种方法具有非接触、效率高、装置简单等优点。综上所述,采用光纤传感法、支持向量机及微分散射法来测量表面粗糙度都是可行的。这也为光学工程中光学元件的精密测量提供了很大帮助。(本文来源于《烟台大学》期刊2016-03-30）
沈磊[9]（2016）在《超光滑表面的积分散射测量仪器研究》一文中研究指出激光陀螺反射镜基片的表面质量,影响着激光陀螺的闭锁阈值,决定了激光陀螺的精度。随着生产规模的扩大,人工检测方法暴露出随机性大、效率低等问题,研制出针对激光陀螺反射镜表面缺陷的快速检测、定位仪器很有必要。论文根据积分散射测量原理对超光滑反射镜基片表面缺陷检测进行了原理实验,对实验中出现的光源功率波动、杂散光干扰和散射光方向性等关键问题进行了研究,对工程化样机中的关键部件根据研究结果进行了软硬件的重新设计,并完成了样机的装调和初步测试。为解决光源功率波动的影响问题,研究了光源的稳定性和不同导光方式的优缺点,设计了专用斩波器,完成了仪器导光光路设计。为解决杂散光对测试的干扰问题,利用FRED软件对测试光路进行了建模分析,研究了不同入射位置下样品的杂散光表现,设计了共焦聚焦镜组,通过仿真实验验证了镜组杂散光屏蔽的有效性,光路杂散光系数优于0.01。为解决散射光的方向性及缺陷定位需求问题,研究分析了不同组合方案和扫描流程的优劣,优化了多角度扫描测试的测试方案,提高了测试效率。为解决旋转坐标变化问题,建模分析了旋转后目标点与数据点测试数据的关系性,设计了旋转后坐标对齐算法,并开发了仪器专用测试软件。最后对仪器进行了组装调试,并完成了对样品的测试实验,实验结果表明仪器检测结果与人工检测结果一致,测试数据重复性优于6%,达到了仪器的设计目标。(本文来源于《南京理工大学》期刊2016-03-01）
陈捷[10]（2015）在《含氟润滑油超光滑表面防覆冰性能研究》一文中研究指出防覆冰意义重大。目前防冰技术中的热力和机械防冰除冰浪费能源,化学防冰危害环境,相比之下,涂层防冰最近备受重视,其中超疏水涂层更是热门研究方向。但最近人们发现,超疏水涂层表面机械性能普遍较差,抗结冰效果有限。基于此,人们开始关注另一种防覆冰涂层——润滑油灌注形成的超光滑表面(SLIPS)。本文首先将稳定、超光滑的全氟聚醚润滑油滴加到高度疏水、具有微粗糙结构的纳米Si O2/氟硅溶胶/环氧树脂涂层中。发现由于润滑油的引入,涂层降低了水滴滚动角,有效延缓了冰对表面的覆盖,防覆冰性能大大提升,对冰的粘附力相比未填充润滑油的高度疏水表面降低了一个数量级,抗结冰和疏冰效果均明显。但上述润滑油/纳米SiO2/环氧树脂涂层表面在经过多次的模拟冻雨测试之后,防覆冰性能减弱。故我们又制备了含有贯通多孔结构的短玻纤/氟硅溶胶/环氧涂层并灌注全氟聚醚润滑油。发现这种涂层在抗结冰和疏冰性能上的表现比润滑油灌注的SiO2涂层更加出色。同时,抗结冰性能的持久性也比SiO2涂层有了很大的提高。(本文来源于《浙江工业大学》期刊2015-11-01）
超光滑表面论文开题报告范文
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
随着光学与微电子领域的不断发展,对零件的表面精度、分辨率、稳定性以及形貌等各方面结构性能都提出了严格的标准,尤其是针对光学元件,更是要求其无表面损伤以及纳米级别的表面粗糙度。目前在光学制造领域,复杂曲面由于其自身显着的优点因而在市场上的运用越来越广泛,但随之而来的是如何实现复杂曲面超光滑表面的大规模加工制造这一技术难题。为此,全球光学加工领域的研究学者都致力于开发新的超光滑表面加工技术,以期实现各种复杂曲面光学元件超光滑表面的生成。本文基于紫外光诱导纳米颗粒胶体射流加工技术,对光耦合TiO_2纳米颗粒胶体射流创生单晶硅超光滑表面加工过程中,胶体环境中的TiO_2纳米颗粒与两种单晶硅表面结构处的Si原子之间的相互作用关系以及后续单晶硅界面原子键的断裂采用了仿真与实验相结合的研究方法,对光耦合下胶体射流单晶硅超光滑表面生成机理进行分析。由于光耦合胶体射流加工是依赖于胶体中的纳米颗粒在光场以及射流动压场的作用下与待加工表面原子发生一系列的界面化学反应从而实现材料表面的原子级去除,所以需用到量子化学研究方法对抛光过程中各个分子、原子间的具体反应路径以及体系能量的变化进行仿真模拟计算。具体的研究内容包括以下几个方面:(1)研究了胶体环境下,纳米颗粒与单晶硅表面原子间的行为路径。在量子化学计算的基础上,通过Material Studio软件建立了锐钛矿型TiO_2模型及其团簇模型与单晶硅“平”、“凸”两种表面模型。利用CASTEP版块进行了,OH基团与锐钛矿型TiO_2团簇、OH基团与单晶硅表面、锐钛矿型TiO_2团簇与单晶硅表面的吸附过程的模拟计算,对比了OH基团与TiO_2团簇模型在两种单晶硅表面结构发生化学吸附的难易程度,最后对TiO_2团簇脱离两种单晶硅表面结构时,表面Si-Si键的断裂所需要的能量进行了计算。仿真计算结果表明:在光耦合TiO_2纳米颗粒胶体射流创生单晶硅超光滑表面加工过程中TiO_2纳米颗粒与单晶硅工件表面间界面反应主要为原子间的键合作用,为光耦合胶体射流创生单晶硅超光滑表面机理奠定了理论基础。(2)分析了配制的TiO_2纳米颗粒胶体的光催化活性。对TiO_2纳米颗粒粉末进行了X射线衍射(XRD)检测,并利用该粉末配制了TiO_2纳米颗粒胶体。通过纳米粒度分析仪以及透射电子显微镜(TEM)对胶体中的TiO_2纳米颗粒进行了粒度分析表征检测。接着对配制好的胶体进行了降解甲基橙溶液的光催化活性对比实验。(3)对单晶硅硅片进行了光耦合胶体射流抛光试验。利用课题组自主研发的好的射流加工平台对单晶硅工件表面进行了紫外光诱导纳米颗粒胶体射流抛光试验,利用原子力显微镜(AFM)对射流加工前后单晶硅表面形貌进行检测,结果表明:光耦合射流抛光后的单晶硅工件获得了获得亚纳米级别的超光滑表面。(4)通过吸附对比试验,对第一性原理仿真结果进行了验证。根据量子化学仿真计算结果,胶体中的TiO_2纳米颗粒与单晶硅表面发生化学碰撞后形成了新的Ti-O-Si共价键,为了对仿真结果进行验证,设计了TiO_2纳米颗粒在单晶硅表面的吸附实验。对比了射流加工后的单晶硅表面,吸附实验后的单晶硅表面以及未经任何处理的单晶硅表面的扫描电子显微镜(SEM)表征结果以及叁者的红外反射光谱,由此证明了单晶硅表面与TiO_2纳米颗粒发生化学吸附后的确会在单晶硅表面生成新的共学键。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
超光滑表面论文参考文献
[1].解格飒,王红军,王大森,田爱玲,刘丙才.超光滑表面缺陷的分类检测研究[J].红外与激光工程.2019
[2].徐国敏.光耦合胶体射流创生单晶硅超光滑表面仿真及试验研究[D].兰州理工大学.2019
[3].崔金花.超光滑表面的构筑及其界面结构对表面润湿性能的影响[D].山东大学.2018
[4].王广林,马瑾.浅谈超光滑表面加工技术[J].山东工业技术.2018
[5].罗杰维.NiP超光滑表面CMP理论模型建立与工艺实验研究[D].哈尔滨工业大学.2018
[6].王新海,马瑾,张永军.浅谈光学零件的超光滑表面加工方法[J].山东工业技术.2018
[7].顾洋.超光滑表面疵病检测系统设计[C].第十六届全国光学测试学术交流会摘要集.2016
[8].朱南南.超光滑表面特征光学检测的实验研究[D].烟台大学.2016
[9].沈磊.超光滑表面的积分散射测量仪器研究[D].南京理工大学.2016
[10].陈捷.含氟润滑油超光滑表面防覆冰性能研究[D].浙江工业大学.2015