导读:本文包含了纳米镶嵌复合论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:纳米,薄膜,丝素,微结构,聚乙烯醇,溶胶,分子筛。
纳米镶嵌复合论文文献综述
薄琼,王改,杨冬花,李玉鹏,葛超[1]（2018）在《具有纳米线镶嵌结构ZSM-5/L复合分子筛的合成及表征》一文中研究指出采用两步晶化法,以四丙基氢氧化铵预处理ZSM-5为晶种,快速合成了纳米线镶嵌结构ZSM-5/L复合分子筛.通过XRD、SEM-EDX、TEM和N_2吸附-脱附等手段对合成样品的物理化学性质进行了表征.孔道性质表明复合分子筛具有微孔和介孔的多级孔道结构,椭球的L分子筛镶嵌在纳米线的ZSM-5分子筛周围.晶种预处理影响了溶胶的电荷及分子筛的形貌,当合成样品中ZSM-5的质量分数小于2%(重量百分比)时,凝胶的负电荷较多,易形成椭球状L分子筛;当合成样品中ZSM-5的质量分数大于2%(重量百分比)时,zeta电位在-39.822～-42.352mV之间波动,ZSM-5分子筛的形貌从长条状逐渐转变为纳米线状.阳离子比影响复合分子筛中L分子筛形成,当阳离子比R=n(K_2O)/(n(K_2O)+n(Na_2O))小于0.6时,不利于L型分子筛的形成;当阳离子比大于0.6,即K~+较多Na~+较少时,有利于L型分子筛中α-钙霞石笼的形成.(本文来源于《分子催化》期刊2018年06期）
张培培,郎言波,郭俊杰,陈欢,秦伟平[2]（2016）在《利用共价键镶嵌上转换纳米晶制备发光NaYF_4-PMMA纳米复合聚合物》一文中研究指出在NaYF_4纳米晶表面修饰不饱和基团,与甲基丙烯酸甲酯单体共聚,制备了NaYF_4-PMMA发光纳米复合聚合物。采用共价键将纳米晶镶嵌在聚合物基质中,可实现纳米粒子均匀、稳定、高浓度的掺杂。所使用的纳米发光材料为NaYF_4∶20%Yb,2%Er和NaYF_4∶20%Yb,1.5%Tm。NaYF_4∶20%Yb,2%Er纳米晶的尺寸为9~14 nm,NaYF_4∶20%Yb,1.5%Tm纳米晶的尺寸为11~15 nm。在980 nm红外光的激发下,NaYF_4∶20%Yb,2%Er-PMMA发出明亮的黄光,NaYF_4∶20%Yb,1.5%Tm-PMMA发出明亮的蓝光,分别与其对应的发光纳米晶的发射光谱完全一致。实验结果表明:NaYF_4-PMMA材料透明性良好,稳定性高,上转换发光强度大。这种上转换发光纳米复合聚合物在显示领域,特别是在真叁维显示方面具有潜在的应用前景。(本文来源于《发光学报》期刊2016年08期）
姚荣迁,符长平,张帅丰,毛宇,冯祖德[3]（2014）在《自支撑硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜基板的制备及导热性能研究》一文中研究指出利用先驱体熔融纺膜法,经熔融纺膜、氧化交联及900~1 200℃不同裂解温度制得系列自支撑硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜。利用红外光谱(FT-IR)分析氧化交联后及高温裂解薄膜的结构变化,通过X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)与扫描电镜(SEM)对薄膜微观结构及形貌进行分析,采用电阻测试仪和激光热导仪对其进行电阻率与热导率进行表征。结果表明,硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜具有较好的绝缘性能与热传导能力,随着裂解温度升高,薄膜电阻率减小,热导率大幅度增大。1 200℃制备的样品具有合适电阻率和最佳热导率(46.8 W/(m·K)),薄膜以非晶态相SiOxCy和游离碳为基体,细小等轴β-SiC晶弥散分布在基体中,其表面平整度高通过丝网印刷可获得两条平行的均匀致密高温银浆电路层,有望大规模应用于大功率LED封装散热基板。(本文来源于《功能材料》期刊2014年23期）
朱强松[4]（2012）在《镶嵌纳米丝素蛋白复合材料的制备及应用》一文中研究指出院内感染是各医院内普遍存在的问题，主要是各种细菌感染，易造成患者的进一步健康损害。为此，开发具有抗菌性能的医疗器械表面涂装材料、设备具有重要意义。从丝素蛋白作为保护蚕顺利度过蛹期而羽化成蛾的生理功能来看，丝素蛋白具有微调节周围环境的功用，可抑制细菌繁殖，具备抑菌性。但是纯再生蚕丝素蛋白材料的成型性及柔韧性能较差，且价格昂贵，其应用受到限制。本课题拟将生物相容性良好的蚕丝素蛋白与成型性好的聚乙烯醇结合起来，开发一种具抗菌性的新型材料。研究采用高浓度的盐溶液溶解丝素纤维，并用中性蛋白酶酶解制备纳米级丝素蛋白(SFP)，再采用水相共混，将所制得的丝素与聚乙烯醇（PVA）按照不同配比共混并成型，制备出了纳米丝素蛋白和聚乙烯醇的共混膜（SFP/PVA）。对SFP/PVA共混膜进行了力学性能的表征，证明了SFP/PVA共混膜的拉伸强度、能承受的最大力与断裂强度均较好。其中SFP/PVA配比为30/70的膜的力学性能最好。采用平板菌落计数的方法对其进行了抗菌性能测试，结果显示部分比例的SFP/PVA共混膜对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌的抗菌率可达到60%以上，而对铜绿色假单胞菌的抗菌效果也可达到30%以上。血液相容性试验结果表明SFP/PVA共混膜的溶血率低于5%，符合生物材料溶血试验要求；并且SFP/PVA共混膜具备一定的抗凝血效果；血小板消耗率低于20%，符合与血液接触的材料的使用要求。SFP/PVA配比为30/70的膜的血液相容性比其它几组配比好。细胞毒性试验结果表明SFP/PVA共混膜均无细胞毒性，且SFP/PVA配比为30/70的膜具有促细胞生长的作用。初步证明了SFP/PVA共混膜作为医疗器械表面涂装材料或医用导管材料的应用前景。(本文来源于《重庆理工大学》期刊2012-04-10）
魏晋军[5]（2008）在《多组分纳米晶粒硅基镶嵌复合薄膜的光致发光研究》一文中研究指出随着信息技术的飞速发展,信息采集、贮存、处理的容量和速度要求日益提高,电子时代的重要物质基础半导体器件正在接近或已经达到其物理极限,必须寻求新的理论和实践的突破;从微电子集成到光电子集成将使信息技术产生一个巨大的飞跃,光子时代正在日益临近。由于硅具有一系列独特的性质,而且硅集成工艺非常完善,在微电子集成中,硅的基础地位无可替代,所以实现硅发光是完成这种飞跃的关键所在,硅基发光材料已成为国内外学者研究的热点,它的光致发光机制正在被广泛深入地研究,我们研究小组在这方面进行了大量的工作,已经取得了一定的研究成果。采用磁控共溅射法在P型硅衬底上沉积了硅含量不同的纳米硅镶嵌氧化硅薄膜,溅射时采用硅/二氧化硅复合靶,通过改变硅与二氧化硅靶的面积比例来改变薄膜中的硅含量,所用复合靶上硅与总靶的面积比分别为5%,10%,20%和30%,4种样品都在氮气氛中经300℃退火30min,使用美国贝克曼公司生产的紫外可见光分光光度计(DU-7B型)对样品进行了光吸收测量,用高分辨电子透射显微镜测定了硅含量不同的系列样品中纳米硅晶粒的尺寸,确定了其光学带隙和光吸收边蓝移量,运用量子限域效应模型和介电限域效应模型进行了理论计算,证实随着薄膜中纳米硅晶粒尺寸的不断缩小,其光吸收边蓝移不断增大,两种理论模型计算值都与实验值存在一定程度的偏差,这与纳米硅晶粒尺寸的表征方法及理论模型的准确性有密切的关系。保持薄膜中硅含量不变,采用不同的退火温度进行后处理,溅射时硅/二氧化硅复合靶的面积比为10%。各样品分别在氮气氛中经过300℃, 500℃, 700℃,和900℃退火处理30min,测量了其光吸收谱,测定了系列样品的光致发光谱,发现其发光峰位几乎不发生移动,发光强度同纳米硅晶粒的尺寸间不存在单调增减的对应关系。使用不同的激发波长对同一样品进行激发测定了光致发光谱,发现样品的发光峰位也未发生明显移动,但发光强度的变化趋势差异较大,证明样品中发光中心的分布并不均匀,具有一定的层次性。采用磁控溅射法制备了SiC/ZnO/Si镶嵌结构复合薄膜,对样品在不同的温度下进行了退火后处理,测定了样品的光致发光谱,结果显示,复合薄膜的光致发光强度较单体薄膜有一定的增强,主要原因是发光复合中心的多元化和分布浓度的变化,随着退火温度的不同,各峰位的变化趋势有所不同。(本文来源于《西北师范大学》期刊2008-05-01）
朱永康[6]（2005）在《溶液混杂和熔体镶嵌陶土/橡胶纳米复合材料》一文中研究指出陶土在橡胶基质中纳米级的分散能使橡胶的物理性能得到改善。陶土 橡胶纳米复合材料形成的基本步骤是硅酸盐层的分层 ,其制备方法主要有以下四种 :现场聚合 ;溶液混杂 ;熔体镶嵌 ;溶胶 凝胶技术。目前的探索主要集中在溶液混杂和熔体镶嵌方面。(本文来源于《世界橡胶工业》期刊2005年04期）
黄焱,潘庆谊,程知萱,张雯,夏崴[7]（2005）在《镶嵌钨硅酸的新型有机-无机纳米复合薄膜的制备及光致变色性能研究》一文中研究指出将超分子自组装技术与 Sol-gel过程相结合 ,制备了镶嵌 Keggin结构钨硅酸的 MAAM/VTEOS/TEOS纳米复合薄膜 ,并采用 IR,XRD和 TG-DSC等方法对薄膜进行了结构表征 .在复合薄膜光照变蓝后 ,通过 UV-Vis和 ESR光谱对薄膜的光致变色性能及其机理进行了研究 .结果表明 ,钨硅酸在复合网络中仍保持 Keggin结构 ,与有机 -无机复合基体中的— NH2 通过氢键发生强烈的相互作用 ,经紫外光照后发生电荷转移 ,[Si W1 2 O4 0 ]4 -被还原为 [Si W1 2 O4 0 ]5- ,同时产生氨基自由基 .褪色过程则与氧气存在与否有关 ,实验结果表明 ,该薄膜具有良好的光致变色性能 ,对光有较快的响应恢复速度和良好的可逆重复性 .(本文来源于《高等学校化学学报》期刊2005年02期）
肖瑛,刘涌,韩高荣[8]（2004）在《纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及发光特性研究》一文中研究指出采用减压化学气相沉积方法,依靠纯N2稀释的SiH4气体的热分解反应,在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜。实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性。结果表明,未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱。退火温度Ta>600℃时,晶化趋势明显,Ta<600℃时,退火温度对晶化的贡献不大,但提高退火温度或延长退火时间可以增加PL强度。同时在退火样品中发现Si-Ox的单晶结构。通过Raman、PL、TEM的分析比较,认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导作用。(本文来源于《薄膜技术学术研讨会论文集》期刊2004-06-30）
肖瑛[9]（2004）在《APCVD制备纳米硅复合镶嵌薄膜及其微结构与性能研究》一文中研究指出本论文全面介绍了纳米材料，特别是纳米镶嵌复合材料的结构特征、性能特性及由此产生的基本性质的变化、常用的制备方法以及硅基纳米复合材料在制备和发光机理方面的研究，并对硅基纳米复合材料在光电器件中的应用和发展做了概述。 对以硅烷为原料气采用常压化学气相沉积制备的薄膜，利用TEM、HREM、XPS、SEM、Raman等手段系统研究了沉积温度、退火后处理等制备工艺对薄膜微结构的影响，分析了微结构的成因。研究发现，未经退火处理的薄膜是纳米硅品粒镶嵌于非晶介质中，并与氧化硅晶粒形成复合的特殊结构。薄膜中的结晶程度随沉积温度的升高而提高，纳米硅晶粒的尺寸由450℃时的1～4nm增大到5nm以上，氧化程度也随之加深，非晶介质中的氧化物逐渐向氧化硅的晶态转变，同时纳米颗粒在晶粒迁移和重排过程中局部形成特殊形貌的团聚物。退火处理后的薄膜结构分析表明，退火温度低于600℃时，短时间退火不能明显改善结晶状况，但结晶趋势明显。退火后薄膜中的晶粒尺寸和密度都有所提高，退火温度升高或退火时间延长都有助于结晶状态的改善。同时在800℃退火1小时的薄膜中发现一种异常结构，在短时间高能电子束照射下呈现明晰的单晶衍射斑点，但时间一长，非晶化现象严重。 对复合镶嵌薄膜光致发光特性的研究发现，在450℃沉积未经过退火处理的薄膜样品中观察到室温光致发光现象，在523.2nm附近有一强的发光谱带。但随沉积温度升高，其发光特性反而减弱甚至消失。经过退火处理后，在相同波长的光激发下发光强度逐渐增强，峰型逐渐变好，发光谱带的半峰宽也变窄。量子限制效应和与氧有关的缺陷发光模型能较好地解释这一实验现象。 对退火前后复合镶嵌薄膜的光学性能作了系统研究。膜厚和结晶都对薄膜透过，反射性能有影响。未经退火的薄膜透过率随沉积温度升高而呈现下降的趋势，但500℃样品比450℃的平均透过率高。相同沉积温度下制备的薄膜样品经过不同退火温度和退火时间处理后，薄膜的平均透过率和平均反射率都比退火前下降，光学能隙变大。(本文来源于《浙江大学》期刊2004-03-01）
肖瑛,韩高荣[10]（2003）在《纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及其发光特性比较研究》一文中研究指出多年来,人们一直在研究硅基光电集成,力求制备出可以实用的硅基发光二极管,但硅作为一种间接能隙的半导体,其带间复合发光效率很低,长期不被看好用于光电子器件。近几年发展起来的纳米Si镶嵌复合薄膜,不仅观察到了强的可见光发射,更具有工艺简单,膜厚和晶粒尺寸可控,表面结构优越,适合于做成硅型光电子器件及大面积光电集成模块等诸多优点,而备受人们的青睐。然而目前有关纳米硅或纳米硅镶嵌复合薄膜的微结构与发光机理,尤其是退火行为(本文来源于《TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》期刊2003-09-01）
纳米镶嵌复合论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
在NaYF_4纳米晶表面修饰不饱和基团,与甲基丙烯酸甲酯单体共聚,制备了NaYF_4-PMMA发光纳米复合聚合物。采用共价键将纳米晶镶嵌在聚合物基质中,可实现纳米粒子均匀、稳定、高浓度的掺杂。所使用的纳米发光材料为NaYF_4∶20%Yb,2%Er和NaYF_4∶20%Yb,1.5%Tm。NaYF_4∶20%Yb,2%Er纳米晶的尺寸为9~14 nm,NaYF_4∶20%Yb,1.5%Tm纳米晶的尺寸为11~15 nm。在980 nm红外光的激发下,NaYF_4∶20%Yb,2%Er-PMMA发出明亮的黄光,NaYF_4∶20%Yb,1.5%Tm-PMMA发出明亮的蓝光,分别与其对应的发光纳米晶的发射光谱完全一致。实验结果表明:NaYF_4-PMMA材料透明性良好,稳定性高,上转换发光强度大。这种上转换发光纳米复合聚合物在显示领域,特别是在真叁维显示方面具有潜在的应用前景。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
纳米镶嵌复合论文参考文献
[1].薄琼,王改,杨冬花,李玉鹏,葛超.具有纳米线镶嵌结构ZSM-5/L复合分子筛的合成及表征[J].分子催化.2018
[2].张培培,郎言波,郭俊杰,陈欢,秦伟平.利用共价键镶嵌上转换纳米晶制备发光NaYF_4-PMMA纳米复合聚合物[J].发光学报.2016
[3].姚荣迁,符长平,张帅丰,毛宇,冯祖德.自支撑硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜基板的制备及导热性能研究[J].功能材料.2014
[4].朱强松.镶嵌纳米丝素蛋白复合材料的制备及应用[D].重庆理工大学.2012
[5].魏晋军.多组分纳米晶粒硅基镶嵌复合薄膜的光致发光研究[D].西北师范大学.2008
[6].朱永康.溶液混杂和熔体镶嵌陶土/橡胶纳米复合材料[J].世界橡胶工业.2005
[7].黄焱,潘庆谊,程知萱,张雯,夏崴.镶嵌钨硅酸的新型有机-无机纳米复合薄膜的制备及光致变色性能研究[J].高等学校化学学报.2005
[8].肖瑛,刘涌,韩高荣.纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及发光特性研究[C].薄膜技术学术研讨会论文集.2004
[9].肖瑛.APCVD制备纳米硅复合镶嵌薄膜及其微结构与性能研究[D].浙江大学.2004
[10].肖瑛,韩高荣.纳米硅镶嵌复合薄膜退火前后的微结构及其发光特性比较研究[C].TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2003
论文知识图
