论文摘要
为了去除蓝宝石化学机械抛光(CMP)后表面残留的抛光液,采用表面活性剂复配清洗法,选用非离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚9 (AEO9)和阴离子表面活性剂脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES)按不同质量比复配,并与酸碱清洗法进行了对比。对CMP后的蓝宝石进行超声辅助清洗实验,分析了不同复配比对于蓝宝石晶片清洗后表面接触角、表面形貌以及颗粒去除率的影响。结果表明:表面活性剂复配清洗法的清洗效果优于传统的酸碱清洗法,最优配比的表面活性剂复配清洗法的颗粒去除率较酸碱清洗法提升了31.17%;当表面活性剂复配清洗法中AEO9与AES复配比为1∶1时,清洗后的蓝宝石表面接触角最小,为21.6°,表面形貌最优,颗粒去除率达到99.65%,清洗效果最好。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 韦嘉辉,周海,高晗,梁志强
关键词: 蓝宝石,化学机械抛光,清洗,表面活性剂复配,超声波
来源: 微纳电子技术 2019年02期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅱ辑
专业: 工业通用技术及设备
单位: 江苏大学机械工程学院,盐城工学院机械工程学院,北京理工大学机械工程学院
基金: 国家自然科学基金资助项目(51675457),江苏省产学研前瞻性创新资金项目(BY2016065-55),江苏省科技成果转化项目(BA2015165)
分类号: TB490
DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2019.02.011
页码: 151-156
总页数: 6
文件大小: 1275K
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