退火后处理论文_江亚晓

导读:本文包含了退火后处理论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译,主要关键词:后处理,薄膜,离子束,黄铜,合金,阵列,溶剂。

退火后处理论文文献综述

江亚晓[1](2018)在《退火与甲胺后处理对CH_3NH_3PbI_3薄膜及其太阳电池性能的影响》一文中研究指出近年来,以CH_3NH_3PbI_3(MAPbI_3)为代表的有机金属卤化物钙钛矿材料显示出独特、卓越的光电特性,如高的吸收系数(10~4 cm~(-1)),低的激子结合能(小于100 meV),较长的载流子扩散长度(10~2-10~5 nm)和高的载流子迁移率(10-10~2cm~2v~(-1)s~(-1))等,在太阳电池领域得到了广泛应用。其中平面异质结钙钛矿太阳电池(PSCs)具有结构简单,可与其它类型电池相兼容以构筑迭层电池,以及可低温制备等诸多优点,成为当前的一个重要研究方向。然而,电池性能的优劣与钙钛矿薄膜质量的高低有着直接的联系。本文先研究了电子传输层TiO_2的厚度对n-i-p平面钙钛矿电池性能的影响;接着重点对MAPbI_3薄膜的制备工艺进行了优化,包括甲胺气体后处理和退火工艺。主要研究内容及结果如下:(1)通过四氯化钛(TiCl_4)在70℃下水解,制备了金红石相TiO_2薄膜,研究了水解时间对TiO_2薄膜和钙钛矿太阳电池性能的影响。随着水解时间的增长,Ti O_2薄膜的厚度增加,对衬底的覆盖度提高。应用于FTO/TiO_2/MAPbI_3/spiro-OMeTAD/Ag平面异质结结构PSCs,发现当水解时间为50 min时(厚度约60 nm),电池效率最高,为10.7%。(2)通过甲胺(CH_3NH_2)气体对MAPbI_3薄膜进行了后处理实验,研究了薄膜表面形貌、微结构和光、电性能随处理时间的变化。当后处理时间为10 s时,得到的MAPbI_3薄膜平整、均匀、致密,光吸收特性和载流子提取效率显着提高。将该技术制备的MAPbI_3薄膜应用于PSCs,效率提高约40%(10.7%到15.3%)。考虑到甲胺气体是由已商业化廉价的甲胺的乙醇溶液提供的,这种后处理方法为实现高效钙钛矿太阳电池的低成本制造提供了新思路。(3)研究了退火温度对MAPbI_3薄膜性能的影响。在常规退火过程中,当温度高于150℃时,MAPbI_3开始分解,产生PbI_2。当采用软膜覆盖法退火时,一方面减缓了溶剂的挥发,有利于晶粒的熟化生长,从而获得了较大的晶粒尺寸;另一方面,抑制了薄膜的分解,最终在180℃退火条件下获得了14.7%的电池效率。当经甲胺气体处理后,可将效率进一步提升至15.6%。(本文来源于《郑州大学》期刊2018-05-01)

周军[2](2015)在《自组装二维金纳米粒子阵列的后处理:退火,操控及应用》一文中研究指出自组装贵金属二维纳米粒子阵列是一种具有单层厚度和宏观面积尺度的纳米结构。由于纳米粒子颗粒之间的近场耦合效应,贵金属二维纳米粒子阵列整体上表现出了独特的光学、电学、磁学特性,在许多方面具有潜在的应用价值。然而,由于制备过程中各种条件的限制,目前自组装二维纳米粒子阵列在调节及操控等方面还存在诸多挑战。对已制备的纳米粒子自组装体进一步处理是解决这一问题的可行途径。后处理可以有效地对纳米粒子阵列进行调控,并可规避制备条件的限制,充分利用现有制备方法。鉴于此种考虑,本论文围绕着自组装二维金纳米粒子阵列的后处理展开了以下工作。首先,通过热处理一个自组装的二维金纳米粒子阵列来调控纳米颗粒之间的距离,实现了在亚纳米尺度下纳米间距的调控。利用理论模拟的方式验证了热处理条件下纳米颗粒间距减少的极限值,同时还描绘了纳米粒子间距与二维纳米粒子阵列紫外光谱的关系曲线。其次,研究了热处理后的金纳米粒子阵列在不同有机试剂中的响应行为。热处理后的金纳米粒子阵列由于纳米间距的减少及配体烷基链的交叉藕联,其稳定性大大增强。在不同的有机试剂中,由于烷基链的不同伸展度导致了纳米粒子间不同的距离,从而产生了不同的光谱效应。再者,以聚乳酸为媒介物,将热处理后的金纳米粒子阵列从原始基底上转移至目标基底上,系统地研究了转移过程中各种因素对转移效果的影响。并在此基础上,利用转移法将二维金纳米粒子阵列完整的转移至高分子薄膜夹层中,制备了一种高模量的高分子/无机纳米复合薄膜。(本文来源于《吉林大学》期刊2015-06-01)

崔潇,陶春先,洪瑞金,张大伟[3](2013)在《离子束辅助及退火后处理对氦-镉激光器反射镜输出功率的影响》一文中研究指出为了制备高输出功率的441.6nm氦-镉激光反射镜,研究了氧离子束辅助工艺及退火后处理对ZrO2单层膜及441.6nm氦-镉激光器ZrO2/SiO2反射膜的影响。利用紫外-可见分光光度计测试了薄膜样品的反射光谱及吸收光谱;通过原子力显微镜测试了薄膜表面的粗糙度。测量及分析结果表明:氧离子束辅助沉积能够提高激光反射镜的反射率并形成致密的薄膜结构,但是由于引入的杂质缺陷提高了薄膜的吸收率从而使得激光的输出功率变小;退火处理消除了吸附于薄膜表面的杂质气体、水分,输出功率相比于退火前有了大幅度的提高。(本文来源于《中国激光》期刊2013年11期)

魏圣明[4](2011)在《连续退火机组后处理挤干与干燥的应用》一文中研究指出介绍了连续退火机组后处理中挤干辊材质的选择及应用,以及后续热风干燥的原理及主要设备情况。(本文来源于《干燥技术与设备》期刊2011年06期)

时晓[5](2001)在《小型黄铜合金部件退火后处理新工艺》一文中研究指出介绍了小型黄铜合金部件退火后处理的一种工艺方法 ,用此方法处理的工件表面洁净且光亮程度较好 ,并在光饰的同时在工件表面形成一层致密的二氧化硅保护膜 ,延缓氧化变色的进程。(本文来源于《辽宁化工》期刊2001年08期)

黄宁康,汪德志,熊兆奎[6](1995)在《电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO_2-Y_2O_3薄膜的结构特征》一文中研究指出对射频磁控溅射沉积的ZrO2-12wt%Y2O3薄膜进行了电子束处理和热退火处理.通过XRD、XPS、SEM等的微观分析,研究了薄膜的相结构组成、薄膜主要组成元素的氧化态以及薄膜的形貌特征。并对以提高薄膜增韧性为目的而进行的后处理的方式选择作了讨论。(本文来源于《核技术》期刊1995年01期)

黄宁康,熊兆奎,汪德志,胡志荃[7](1994)在《ZrO_2-12wt% Y_2O_3沉积薄膜退火后处理前后的相结构研究》一文中研究指出在不同温度衬底上射频磁控溅射沉积ZrO2-12wt%Y2O3薄膜进行了不同方式的退火后处理。其一为1000℃大气气氛下的热退火处理,其二为高真空渗氧条件下的电子束退火处理。退火前后的相结构和显微形貌的研究表明,退火前的沉积膜相组成与沉积过程中衬底温度有关,退火后的沉积膜相组成与退火方式有关,其形貌特征经不同形式退火显示出明显的差别。(本文来源于《真空科学与技术》期刊1994年01期)

退火后处理论文开题报告

(1)论文研究背景及目的

此处内容要求:

首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景,再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题,并提出你的论文准备的观点或解决方法。

写法范例:

自组装贵金属二维纳米粒子阵列是一种具有单层厚度和宏观面积尺度的纳米结构。由于纳米粒子颗粒之间的近场耦合效应,贵金属二维纳米粒子阵列整体上表现出了独特的光学、电学、磁学特性,在许多方面具有潜在的应用价值。然而,由于制备过程中各种条件的限制,目前自组装二维纳米粒子阵列在调节及操控等方面还存在诸多挑战。对已制备的纳米粒子自组装体进一步处理是解决这一问题的可行途径。后处理可以有效地对纳米粒子阵列进行调控,并可规避制备条件的限制,充分利用现有制备方法。鉴于此种考虑,本论文围绕着自组装二维金纳米粒子阵列的后处理展开了以下工作。首先,通过热处理一个自组装的二维金纳米粒子阵列来调控纳米颗粒之间的距离,实现了在亚纳米尺度下纳米间距的调控。利用理论模拟的方式验证了热处理条件下纳米颗粒间距减少的极限值,同时还描绘了纳米粒子间距与二维纳米粒子阵列紫外光谱的关系曲线。其次,研究了热处理后的金纳米粒子阵列在不同有机试剂中的响应行为。热处理后的金纳米粒子阵列由于纳米间距的减少及配体烷基链的交叉藕联,其稳定性大大增强。在不同的有机试剂中,由于烷基链的不同伸展度导致了纳米粒子间不同的距离,从而产生了不同的光谱效应。再者,以聚乳酸为媒介物,将热处理后的金纳米粒子阵列从原始基底上转移至目标基底上,系统地研究了转移过程中各种因素对转移效果的影响。并在此基础上,利用转移法将二维金纳米粒子阵列完整的转移至高分子薄膜夹层中,制备了一种高模量的高分子/无机纳米复合薄膜。

(2)本文研究方法

调查法:该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。

观察法:用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。

实验法:通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。

文献研究法:通过调查文献来获得资料,从而全面的、正确的了解掌握研究方法。

实证研究法:依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。

定性分析法:对研究对象进行“质”的方面的研究,这个方法需要计算的数据较少。

定量分析法:通过具体的数字,使人们对研究对象的认识进一步精确化。

跨学科研究法:运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。

功能分析法:这是社会科学用来分析社会现象的一种方法,从某一功能出发研究多个方面的影响。

模拟法:通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。

退火后处理论文参考文献

[1].江亚晓.退火与甲胺后处理对CH_3NH_3PbI_3薄膜及其太阳电池性能的影响[D].郑州大学.2018

[2].周军.自组装二维金纳米粒子阵列的后处理:退火,操控及应用[D].吉林大学.2015

[3].崔潇,陶春先,洪瑞金,张大伟.离子束辅助及退火后处理对氦-镉激光器反射镜输出功率的影响[J].中国激光.2013

[4].魏圣明.连续退火机组后处理挤干与干燥的应用[J].干燥技术与设备.2011

[5].时晓.小型黄铜合金部件退火后处理新工艺[J].辽宁化工.2001

[6].黄宁康,汪德志,熊兆奎.电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO_2-Y_2O_3薄膜的结构特征[J].核技术.1995

[7].黄宁康,熊兆奎,汪德志,胡志荃.ZrO_2-12wt%Y_2O_3沉积薄膜退火后处理前后的相结构研究[J].真空科学与技术.1994

论文知识图

CCTO样品退火后处理前的介温特...不同温度下真空退火后处理的Zn...不同温度下真空退火后处理的Zn...添加反变形结构抑制翘曲加工成功4-2 (a)未处理的非晶态 Se0.5Te0.5纤芯...叁组试样的残余应力测试结果

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