(100)/(111)面金刚石膜抗氧等离子刻蚀能力

论文摘要

使用微波等离子体技术（microwave plasma chemical vapor deposition,MPCVD）对膜厚100μm的（100）和（111）晶面金刚石膜进行刻蚀处理,研究其抗氧等离子体的行为。结果表明:（100）晶面刻蚀首先发生在晶棱晶界处,而（111）晶面金刚石的刻蚀首先发生在晶面处;30 min刻蚀后,（100）面金刚石有明显晶面显现,（111）面金刚石膜晶面不明显;60 min刻蚀后,（100）和（111）晶面金刚石膜的择优取向消失;（100）晶面金刚石特征峰的半高宽值（full width at the half maximum,FWHM）由刻蚀前的8.51 cm–1上升至刻蚀后的12.48 cm–1,（111）晶面金刚石FWHM值由8.74 cm–1上升至148.49 cm–1;（100）晶面金刚石膜刻蚀速率在40 min时为0.35μm/min,60 min时上升至1.34μm/min;刻蚀前期,（100）晶面金刚石膜具有更好的抗氧等离子体刻蚀能力,刻蚀后期其抗刻蚀能力与（111）晶面金刚石膜相似。

论文目录

• 1 实验材料及方法
• 2 结果与分析
•   2.1 刻蚀前后金刚石膜表面形貌对比
•   2.2 刻蚀前后金刚石膜质量对比
•   2.3 刻蚀前后金刚石膜晶面取向对比
•   2.4 金刚石膜刻蚀速率
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 孙祁,汪建华,程翀,陈祥磊,吴荣俊,刘单,祝娇

关键词: 金刚石膜,晶面,氧等离子体,刻蚀

来源: 航空材料学报 2019年02期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 化学,材料科学,工业通用技术及设备

单位: 武汉第二船舶设计研究所,武汉工程大学材料科学与工程学院

分类号: O786;TB383.2

页码: 55-60

总页数: 6

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