全文摘要
一种涂覆基台，该涂覆基台包括：基台和可切换基台。基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；沿涂覆喷头的行进方向，基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，可切换基台包括至少一个基板，每一个基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个可切换基台均有一个基板处于作业工位时，沿涂覆喷头的行进方向，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的前端，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的后端。该涂覆基台可以减少涂覆前后端涂覆不均匀的不良发生率，简化涂覆工艺，提高了良品率。
主设计要求
1.一种涂覆基台，其特征在于，包括：基台，所述基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；沿涂覆喷头的行进方向，所述基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，所述可切换基台包括至少一个基板，每一个所述基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个所述可切换基台均有一个所述基板处于作业工位时，沿所述涂覆喷头的行进方向，一个所述可切换基台的一个基板的待涂覆面位于所述待涂覆基板的涂覆面的前端，一个所述可切换基台的一个基板的待涂覆面位于所述待涂覆基板的涂覆面的后端。
设计方案
1.一种涂覆基台，其特征在于，包括：
基台，所述基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；
沿涂覆喷头的行进方向，所述基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，所述可切换基台包括至少一个基板，每一个所述基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个所述可切换基台均有一个所述基板处于作业工位时，沿所述涂覆喷头的行进方向，一个所述可切换基台的一个基板的待涂覆面位于所述待涂覆基板的涂覆面的前端，一个所述可切换基台的一个基板的待涂覆面位于所述待涂覆基板的涂覆面的后端。
2.根据权利要求1所述的涂覆基台，其特征在于，每一个所述可切换基台包括：
转轴，所述转轴的延伸方向与两个所述可切换基台的排列方向垂直、且与所述基台的承载面平行；
连接部，所述连接部与所述转轴连接；
沿所述转轴的周向分布的多个所述基板，每一个所述基板通过所述连接部与所述转轴连接，每一个所述基板沿所述转轴的周向具有作业工位和清洁工位；
位于所述清洁工位的清洁组件。
3.根据权利要求2所述的涂覆基台，其特征在于，所述清洁工位包括：沿所述转轴的旋转方向依次分布的预清洗工位、清洗工位和干燥工位，所述作业工位位于所述干燥工位和所述预清洗工位之间；
所述清洁组件包括位于所述预清洗工位的预清洁组件、安装于所述清洗工位的清洗组件、安装于所述干燥工位的干燥组件。
4.根据权利要求3所述的涂覆基台，其特征在于，所述清洗组件包括超声波清洗装置。
5.根据权利要求3所述的涂覆基台，其特征在于，所述干燥组件包括气枪。
6.根据权利要求2所述的涂覆基台，其特征在于，每一个所述可切换基台包括四个所述基板，且四个所述基板绕所述转轴的周向均匀分布。
7.根据权利要求2所述的涂覆基台，其特征在于，每一个基板可相对于所述转轴沿垂直于所述转轴的轴心线、且沿垂直于自身涂覆面的方向位置可调的通过所述连接部安装于所述转轴。
8.根据权利要求7所述的涂覆基台，其特征在于，每一个所述可切换基台中，所述连接部包括固定于所述转轴的连接部本体、安装于所述连接部本体、且与所述基板一一对应的伸缩机构，每一对相互对应的伸缩机构和基板中，所述基板通过所述伸缩机构安装于所述连接部本体。
9.根据权利要求8所述的涂覆基台，其特征在于，每一对相互对应的伸缩机构和基板中，所述伸缩机构为气缸，其中，所述气缸的缸体安装于所述连接部本体，所述气缸的伸缩杆与基板连接。
10.根据权利要求2所述的涂覆基台，其特征在于，所述基板为硬质不粘胶材料。
设计说明书
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种涂覆基台。
背景技术
现有技术中，光刻胶在涂覆的过程中，从涂覆喷头开始移动到匀速运动的过程中，移动速度由小到大，涂覆喷头出胶量也由小到大，而移动速度与出胶量难以实时匹配，导致涂覆初始阶段涂覆的光刻胶厚度不均匀；从涂覆喷头开始减速运动的过程中，移动速度由大到小，涂覆喷头出胶量也由大到小，而移动速度与出胶量难以实时匹配，导致涂覆结束阶段涂覆的光刻胶厚度也不均匀；因此，整个涂覆过程中涂覆的光刻胶厚度不均匀。
发明内容
本申请实施例提供一种涂覆基台，用于解决现有技术中在涂覆过程中涂覆不均匀，使得涂覆具有均匀性。
本申请实施例提供一种涂覆基台，包括：
基台，所述基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；
沿涂覆喷头的行进方向，所述基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，所述可切换基台包括至少一个基板，每一个所述基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个所述可切换基台均有一个所述基板处于作业工位时，沿所述涂覆喷头的行进方向，一个所述可切换基台的一个基板的待涂覆面位于所述待涂覆基板的涂覆面的前端，一个所述可切换基台的一个基板的待涂覆面位于所述待涂覆基板的涂覆面的后端。
上述涂覆基台中，包括基台和可切换基台。基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；沿涂覆喷头的行进方向，基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，可切换基台包括至少一个基板，每一个基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个可切换基台均有一个基板处于作业工位时，沿涂覆喷头的行进方向，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的前端，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的后端。当两个可切换基台的基板处于作业工位时，沿涂覆喷头的行进方向，涂覆喷头在基台前侧的可切换基台的基板上为运动启动阶段(预成膜区和加速区)，在基台上为匀速运动阶段，在基台后侧的可切换基台的基板上为运动停止阶段(减速区)。涂覆喷头在行进过程中喷头出胶的速度不变，涂覆喷头在运动启动阶段和运动停止阶段的涂覆胶不均匀，在基台上待涂覆基板的涂覆面上为匀速运动阶段，涂覆胶具有均匀性。当两侧可切换基台的基板通过清洁工位时，基板上的涂覆胶被清洁干净，这样保留了基台上待涂覆基板上的均匀的涂覆胶，提高了涂覆的均匀性。因此，使用上述涂覆基台对待涂覆基板进行涂覆，可以避免涂覆前端和后端不均匀现象，涂覆前端大面积破膜、破膜竖线、前端泛白、泛黑等不良成膜区间，同时简化涂覆工艺，提高涂覆成功率。
优选的，每一个所述可切换基台包括：
转轴，所述转轴的延伸方向与两个所述可切换基台的排列方向垂直、且与所述基台的承载面平行；
连接部，所述连接部与所述转轴连接；
沿所述转轴的周向分布的多个所述基板，每一个所述基板通过所述连接部与所述转轴连接，每一个所述基板沿所述转轴的周向具有作业工位和清洁工位；
位于所述清洁工位的清洁组件。
优选的，所述清洁工位包括：沿所述转轴的旋转方向依次分布的预清洗工位、清洗工位和干燥工位，所述作业工位位于所述干燥工位和所述预清洗工位之间；
所述清洁组件包括位于所述预清洗工位的预清洁组件、安装于所述清洗工位的清洗组件、安装于所述干燥工位的干燥组件。
优选的，所述清洗组件包括超声波清洗装置。
优选的，所述干燥组件包括气枪。
优选的，每一个所述可切换基台包括四个所述基板，且四个所述基板绕所述转轴的周向均匀分布。
优选的，每一个基板可相对于所述转轴沿垂直于所述转轴的轴心线、且沿垂直于自身涂覆面的方向位置可调的通过所述连接部安装于所述转轴。
在一张可能的实施方式中，每一个所述可切换基台中，所述连接部包括固定于所述转轴的连接部本体、安装于所述连接部本体、且与所述基板一一对应的伸缩机构，每一对相互对应的伸缩机构和基板中，所述基板通过所述伸缩机构安装于所述连接部本体。
优选的，每一对相互对应的伸缩机构和基板中，所述伸缩机构为气缸，其中，所述气缸的缸体安装于所述连接部本体，所述气缸的伸缩杆与基板连接。
优选的，所述基板为硬质不粘胶材料。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所介绍的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例中涂覆基台的正视结构示意图；
图2为本申请实施例中涂覆基台的俯视结构示意图；
图3为本申请实施例中可切换基台的正视结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1所示，为本申请实施例中涂覆基台的正视结构示意图。该涂覆基台包括：基台101和可切换基台102；基台具有用于承载待涂覆基板的承载面103；沿涂覆喷头106的行进方向，基台101的前侧和后侧均设有一可切换基台102，可切换基台102包括至少一个基板104，每一个基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个可切换基台均有一个基板处于作业工位时，沿涂覆喷头的行进方向，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的前端，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的后端。
在本实施例中，如图1所示，基台具有承载待涂覆基板的承载面，在承载面上放置待涂覆光刻胶的成膜基板105，光刻胶通过涂覆喷头流出涂覆到成膜基板上。如图2所示为本申请实施例中涂覆基台的俯视结构示意图，涂覆喷头 106在涂覆基台上行进的方向201上，从开始移动到匀速运动的过程中，移动速度由小到大，涂覆喷头出胶量也由小到大，而移动速度与出胶量难以实时匹配，导致涂覆初始阶段涂覆的光刻胶厚度不均匀；因此，涂覆初始阶段为涂覆预成膜区和加速区202。当涂覆喷头沿行进方向移动到成膜基板的另一端时，移动速度由大到小，涂覆喷头出胶量也由大到小，而移动速度与出胶量难以实时匹配，导致涂覆结束阶段涂覆的光刻胶厚度也不均匀；因此，涂覆结束阶段为涂覆减速区203。
沿涂覆喷头行进方向，基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，如图3所示为本申请实施例中一可切换基台的正视结构示意图。可切换基台包括至少一个基板104，该基板为硬质不粘胶材料，每一个基板具有作业工位301和清洗工位302。当两个可切换基台均有一个基板处于作业工位301时，沿涂覆喷头的行进方向，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的前端，也就是位于涂覆基台的预成膜区和加速区，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的后端，也就是位于涂覆基台的减速区。当涂覆喷头在待涂覆基板的涂覆面上完成涂覆后，基台上待涂覆基板的涂覆面上涂覆的光刻胶均匀，而可切换基台的基板的待涂覆面上涂覆的光刻胶分别位于涂覆预成膜区、加速区和减速区，因此光刻胶不均匀。当两个可切换基台上带有光刻胶的的基板处于清洁工位后，可将基板上的不均匀的光刻胶清洁干净。这样可以保留基台上待涂覆基板的涂覆面上均匀的光刻胶，避免因前后端涂覆胶不均匀导致大面积破膜，破膜竖线、泛白、泛黑等不良成膜，同时简化涂覆工艺，提高涂覆成功率。
如图3所示，每一个可切换基台102包括：转轴303，转轴303的延伸方向与两个可切换基台的排列方向垂直、且与基台的承载面平行；连接部304，连接部304与转轴303连接；沿转轴303的周向分布的多个基板104，每一个基板104通过连接部304与转轴303连接，每一个基板104沿转轴的周向具有作业工位301和清洁工位302；位于清洁工位的清洁组件。每一个基板沿涂覆喷头行进方向的尺寸可以根据涂覆预成膜区、加速区及减速区沿涂覆喷头行进方向的尺寸进行设置，本申请对此不作限制。
如图1所示，每一个可切换基台102包括四个基板104，且四个基板绕转轴的周向均匀分布。每一个基板102可相对于转轴201沿垂直于转轴的轴心线、且沿垂直于自身涂覆面的方向位置可调的通过连接部安装于转轴。在每个可切换基台绕轴的周向均匀设置四个基板，当一个基板在作业工位结束涂覆后，转轴旋转带动该基板进入清洁工位，不同清洁组件对基板依次进行清洁，其他的基板在转轴的带动下从清洁工位结束清洁后依次进入作业工位，这样可以使得涂覆过程重复不间断重复进行，节约时间、提高生涂覆工作的效率。
如图3所示，每一个可切换基台中，连接部304包括固定于转轴的连接部本体3041、安装于连接部本体、且与基板一一对应的伸缩机构3042，每一对相互对应的伸缩机构和基板中，基板通过伸缩机构安装于连接部本体，伸缩机构为气缸，其中，气缸的缸体安装于连接部本体，气缸的伸缩杆与基板连接。在涂覆喷头结束涂覆后，伸缩机构可以带动可切换基台上涂覆光刻胶的基板移动靠近转轴，通过转轴旋转，可切换基台上涂覆光刻胶的基板进入清洁工位进行清洁，清洁结束后该基板回到作业工位，伸缩机构沿垂直于涂覆行进方向移动远离转轴，进入待涂覆状态。这样可以避免该基板从干燥工位旋转到作业工位时损坏基台上靠近可切换基台的待涂覆基板的涂覆面上的光刻胶，涂覆前端大面积破膜等不良现象。
如图3所示，清洁工位包括：沿转轴的旋转方向305依次分布的预清洗工位3021、清洗工位3022和干燥工位3023，作业工位105位于干燥工位3023 和预清洗工位3022之间；清洁组件包括位于预清洗工位的预清洁组件、安装于清洗工位的清洗组件、安装于干燥工位的干燥组件。沿转轴的旋转方向依次分布预清洁工位，清洗工位和干燥工位。清洗组件包括超声波装置，干燥组件包括气枪。其中，预清洗工位上的预清洁组件对基板上的光刻胶进行预清洁；清洗工位上的超声波装置对预清洗后的基板进行Solvent超声波清洗处理，经过超声波清洗将基板上的光刻胶清洗干净；干燥工位上的气枪对清洗干净的基板进行干燥处理。带有光刻胶的基板沿转轴的旋转方向依次经过预清洗工位、清洗工位和干燥工位后将基板清洗干净，当清洁干净的基板旋转到作业工位时，可以进入待涂覆状态。可以根据实际需要对清洁工位及各清洁工位上的清洁组件进行设置，本申请对此不作限制。涂覆后的基板经过以上清洁工位，可以保留基台上待涂覆基板上涂覆的均匀的光刻胶，避免因前后端涂胶不均匀导致大面积破膜，破膜竖线、泛白、泛黑等不良成膜，同时可切换基台上的基板用于多次涂覆，简化涂覆工艺，提高涂覆成功效率，降低涂覆成本。
本实施例提供了一种涂覆基台，该涂覆基台包括：基台和可切换基台。基台具有用于承载待涂覆基板的承载面；沿涂覆喷头的行进方向，基台的前侧和后侧均设有一可切换基台，可切换基台包括至少一个基板，每一个基板具有作业工位和清洗工位，其中，当两个可切换基台均有一个基板处于作业工位时，沿涂覆喷头的行进方向，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的前端，一个可切换基台的一个基板的待涂覆面位于待涂覆基板的涂覆面的后端。该涂覆基台可以减少涂覆前后端涂覆不均匀的不良发生率，简化涂覆工艺，提高了良品率。
尽管已描述了本申请的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本申请范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920301726.7
申请日:2019-03-08
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:11(北京)
授权编号:CN209849201U
授权时间:20191227
主分类号:B05C11/00
专利分类号:B05C11/00;B05C5/02
范畴分类:23B;
申请人:京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
第一申请人:京东方科技集团股份有限公司
申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
发明人:莫凡
第一发明人:莫凡
当前权利人:京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
代理人:郭润湘
代理机构:11291
代理机构编号:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计
标签：涂覆论文;