论文摘要
采用交流阻抗(EIS)、塔菲尔(Tafel)极化曲线和循环伏安法(CV)研究了铜表面3-己基-4-氨基-1,2,4-三唑-5-硫酮(HATT)和5-己基-1,2,4-三唑-3-硫酮(HXTT)自组装膜抗0.5 mol/L盐酸溶液腐蚀的电化学性能。通过接触角、吸附热力学和X射线光电子能谱分析,探究HATT和HXTT在铜表面的自组装机理。结果表明:HATT和HXTT在铜表面的自组装单层膜都能很好地延缓铜的腐蚀。铜表面经5×10-5 mol/L HATT和HXTT处理24 h,后所生成的自组装膜对铜在0.5mol/L盐酸溶液中的缓蚀效率分别达到97.33%(HATT)和95.51%(HXTT),HATT的效果更佳。HATT和HXTT都通过其分子中的氮、硫原子与Cu原子结合生成Cu(I)络合物而化学吸附于铜金属表面,形成致密的自组装单层膜,阻隔溶液中Cl-等腐蚀粒子扩散至铜表面,起到缓蚀作用。与此同时,自组装膜中烷基朝外面向溶液,使铜表面由亲水性转化成疏水性。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 刘琴,刘广义,牛晓雪,曲肖彦
关键词: 己基三唑硫酮,自组装单层膜,交流阻抗,曲线,循环伏安,铜防腐
来源: 中国有色金属学报 2019年05期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 中南大学化学化工学院
基金: 国家自然科学基金资助项目(51474253),国家重点基础研究发展计划资助项目(2014CB643403),国家高技术研究发展计划资助项目(2013AA064101)~~
分类号: TG174.42
DOI: 10.19476/j.ysxb.1004.0609.2019.5.24
页码: 1102-1117
总页数: 16
文件大小: 3444K
下载量: 83
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