论文摘要
投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身体健康。介绍AMC的分类、危害、控制方法及检测方法,为投影光刻机中AMC的有效控制提供参考。
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 李佳
关键词: 集成电路制造,光刻机分子污染物,高纯气体分子,酸分子碱凝缩物,掺杂物
来源: 电子技术 2019年01期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑
专业: 环境科学与资源利用,无线电电子学
单位: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
基金: 上海市高科技企业技术创新课题项目
分类号: X76;X831;TN405
页码: 57-59
总页数: 3
文件大小: 1006K
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标签：集成电路制造论文; 光刻机分子污染物论文; 高纯气体分子论文; 酸分子碱凝缩物论文; 掺杂物论文;