Ti-Si-N纳米多层膜的研究进展

论文摘要

TiN存在高温氧化不良、固有脆性等缺点。将硅混合到TiN网络中,形成Ti-Si-N纳米多层膜,此纳米多层膜的硬度有了显著的提高。Ti-Si-N纳米多层膜是一类有着广阔应用前景的新材料,它在涂料、航空航天工业、电子器件等众多领域都有着广泛的应用。尤其在硬质合金刀具领域,较高的硬度、较好的耐磨性和韧性能够延长刀具的使用寿命。Ti-Si-N纳米多层膜制备方法有物理气相沉积和化学气相沉积两大类。物理气相沉积法是原材料在腔体的一端蒸发,然后沉积在腔体另一端较冷的基体上的方法。化学气相沉积在高温下发生化学反应,使钛、硅、氮原子发生重新组合,在基体表面生成Ti-Si-N纳米多层膜。与物理气相沉积方法相比,化学气相沉积方法需要的温度更高,并且化学反应中存在SiH 4等危险性气体,不适合大规模工业生产。Ti-Si-N纳米多层膜的性能主要受Si含量、调制周期和热处理温度等影响。随着Si含量的增加,纳米多层膜的性能先增强后减弱,Si含量在2.76%（质量分数）时,纳米多层膜硬度最大,摩擦系数最小。不同调制周期的多层膜性能优于单层膜,调制周期为0.7 nm时,纳米多层膜硬度达到28.7 GPa,弹性模量为301.1 GPa。随着退火温度的升高,纳米多层膜的附着性先增强后减弱,温度在800～950℃时,纳米多层膜硬度达到（49.7±0.83） GPa,结合力为83 N。纳米多层膜有超硬性,耐磨性和耐高温氧化性。对于纳米多层膜的超硬性,不同学者提出了不同的强化理论:交变应力场、模量差和Hall-petch强化理论;通过摩擦磨损实验可以判断纳米多层膜的磨损机制;在TiN中加入Si,生成的Ti-Si-N纳米多层膜具有耐高温氧化性。

论文目录

• 0 引言
• 1 制备方法
•   1.1 CVD技术
•   1.2 PVD技术
•     1.2.1 磁控溅射
•     1.2.2 离子镀
• 2 纳米多层膜影响因素
•   2.1 Si含量对纳米多层膜性能的影响
•   2.2 调制周期对纳米多层膜性能的影响
•   2.3 热处理温度对纳米多层膜性能的影响
• 3 纳米多层膜性能
•   3.1 超硬性
•   3.2 摩擦磨损性
•   3.3 耐高温氧化性
• 4 展望

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 韩瑞路,阎红娟

关键词: 纳米多层膜,高温热稳定性,摩擦学性能

来源: 材料导报 2019年S2期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学

单位: 北方工业大学机械与材料工程学院

基金: 国家自然科学基金(51575004,51775044,11704008),北方工业大学毓优青年,毓优团队计划和学生科技活动~~

分类号: TB383.1

页码: 169-174

总页数: 6

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