沉积温度及热处理对低压化学气相沉积氮化硅涂层的影响（英文）

论文摘要

以SiCl4-NH3-H2为前驱体,在750～1250℃范围内通过低压化学气相沉积技术于碳纤维布上制备氮化硅涂层,系统研究了沉积温度对氮化硅涂层的生长动力学、形貌、化学组成和结合态的影响。研究结果表明,在沉积温度低于1050℃的情况下,随着沉积温度的升高,沉积速率单调增大。而当沉积温度高于1050℃时,沉积速率随温度升高逐渐下降。在整个沉积温度范围内,随着沉积温度的升高,涂层表面形态逐渐向菜花状转变,同时涂层表面变得愈加粗糙。涂层的最佳沉积温度在750～950℃之间。随着沉积温度的升高,涂层中氮含量先降低后升高,而硅含量不断增加,氧含量在整个温度范围内逐渐降低。原始沉积涂层均呈无定形态,经高于1300℃热处理后实现晶化,并伴随着表面形貌的显著变化。此时涂层仅由a-Si3N4构成,不存在任何b-Si3N4相。

论文目录

• 1 Experimental
•   1.1 Materials and preparation of the coatings
•   1.2 Characterization
• 2 Results and discussion
•   2.1 Growth kinetic
•   2.2 Surface and fracture morphologies of coatings
•   2.3 Chemical composition
•   2.4 Effect of heat treatment on the structure of coatings
• 3 Conclusions

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 廖春景,董绍明,靳喜海,胡建宝,张翔宇,吴惠霞

关键词: 氮化硅涂层,生长动力学,沉积温度,化学组成,热处理

来源: 无机材料学报 2019年11期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学

单位: 上海师范大学化学与材料科学学院,中国科学院上海硅酸盐研究所结构陶瓷与复合材料工程研究中心,中国科学院大学

基金: National Key Research and Development Program of China(2016YFB0700202),National Natural Science Foundation of China(51872310),Chinese Academy of Science(QYEDY-SSW-JSC031)

分类号: TB306

页码: 1231-1237

总页数: 7

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