基于三维光学模型的彩色边缘场效应优化

基于三维光学模型的彩色边缘场效应优化

论文摘要

研究了垂直向列型彩色滤光膜硅覆液晶(VA CF-LCoS)微显示器件,并利用其三维光学模型,改变液晶器件的预倾角、像素尺寸等参数,优化了微小像素中的边缘电场效应。为进一步优化器件的性能,建立了以圆偏振光作为入射光源的微显示器件的三维光学模型。研究结果表明:当以圆偏振光作为照明光源时,VA CF-LCoS微显示器件的光学反射效率可得到大幅提升。由于采用了三维光学模型的分析方法,得到了与利用二维光学模型进行分析时完全不同的结论:优化只能使得边缘场效应导致的亮态子像素内部黑线减小,而不能彻底消除它。

论文目录

  • 1 引 言
  • 2 LP-VA CF-LCoS微显示器件的性能优化
  •   2.1 预倾角
  •   2.2 像素尺寸
  • 3 CP-VA CF-LCoS微显示器件的三维光学建模
  • 4 CP-VA CF-LCoS微显示器件的分析与优化
  • 5 结 论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 李丹,张宝龙,郭海成

    关键词: 光学器件,彩色滤光膜,硅覆液晶,垂直向列型,光学建模,圆偏振光

    来源: 中国激光 2019年07期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,信息科技

    专业: 物理学,电信技术

    单位: 天津科技大学电子信息与自动化学院,香港科技大学先进显示与光电子技术国家重点实验室

    分类号: TN873.93;O436.3

    页码: 151-158

    总页数: 8

    文件大小: 2957K

    下载量: 53

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