3.7~4.8μm中红外带通滤光膜研制

3.7~4.8μm中红外带通滤光膜研制

论文摘要

以光学薄膜理论为出发点,系统介绍了3.7~4.8μm带通滤光膜的理论设计与优化、实际生产制备以及成品测试方法。考虑到膜料性能及膜层匹配等问题,分别选用锗和一氧化硅作为高低折射率材料,并以氧化铝作为薄膜基底。确定了滤光膜的基础膜系,并使用Filmaster软件对膜系进行了设计和优化计算。在薄膜蒸镀过程中,根据材料选取合适的镀制工艺。通过温度控制、离子辅助等方法研制出了可靠性与光谱特性皆优的带通滤光膜,并对其光谱特性及膜层质量等进行了测试。根据设计目标修改工艺参数,最终确定可行的工艺流程,从而研制出了符合光学性能设计指标的3.7~4.8μm带通滤光膜。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 带通滤光膜的设计
  •   1.1 薄膜材料的选择
  •   1.2 带通滤光膜的设计与优化
  • 2 带通滤光膜的制备与检测
  • 3 结束语
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 岳威,梁灵芬,王嘉欣,张阔,刘连泽

    关键词: 带通滤光膜,中红外,膜系设计,工艺参数

    来源: 红外 2019年08期

    年度: 2019

    分类: 信息科技,基础科学,工程科技Ⅱ辑

    专业: 物理学,工业通用技术及设备,无线电电子学

    单位: 华北光电技术研究所

    分类号: O484.41;TN215

    页码: 19-23

    总页数: 5

    文件大小: 1229K

    下载量: 43

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