调制周期对TaN/TiSiN纳米多层膜微观结构与性能影响

论文摘要

使用磁控溅射仪沉积一系列不同调制周期的TaN/TiSiN纳米多层膜。采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计、摩擦磨损试验机分析与表征纳米多层膜微观结构和性能,研究调制周期对TaN/TiSiN纳米多层膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响。结果表明,TaN/TiSiN纳米多层膜均为面心立方结构,在(111)晶面和(200)晶面呈现择优取向。当调制周期为25nm时,TaN/TiSiN纳米多层膜硬度最大值为30.9GPa,摩擦系数与磨损量最小。TaN/TiSiN纳米多层膜的位错穿过TaN层与TiSiN层界面时将受到多层膜界面对其施加的镜像力作用,阻碍位错的运动,引起薄膜的强化。

论文目录

• 0 引言
• 1 实验材料与方法
•   1.1 基片材料和靶材
•   1.2 纳米多层膜制备
•   1.3 纳米多层膜性能表征
• 2 结果与分析
•   2.1 纳米多层膜微观结构
•   2.2 调制周期对纳米多层膜硬度的影响
•   2.3 调制周期对纳米多层膜摩擦磨损性能的影响
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 阎红娟,田沁叶,刘峰斌,司丽娜,张淑婷

关键词: 共格外延生长,硬度,耐磨性

来源: 热喷涂技术 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 北方工业大学机械与材料工程学院

基金: 国家自然科学基金项目(51575004,51775044),北京市教委-市自然科学基金联合资助项目(KZ201910009010),北方工业大学毓优团队和学生科技活动

分类号: TG174.4

页码: 25-30

总页数: 6

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